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PATTERN INSERTION METHOD USING ALIGNER FOR PERFORMING EASILY ALIGNMENT OPERATION IN PATTERNING PROCESS BY INSERTING ALIGNMENT KEY PATTERN, MONITORING PATTERN, AND DUMMY PATTERN INTO EDGE REGION

机译:通过将对齐键关键图案,监视图案和虚拟图案插入边缘区域,使用aligner在图案化过程中执行轻松对齐操作的图案插入方法

摘要

PURPOSE: A pattern insertion method using an aligner is provided to perform easily an alignment operation in a patterning process by inserting an alignment key pattern, a monitoring pattern, and a dummy pattern into an edge region. CONSTITUTION: An alignment key pattern, a monitoring pattern, and a dummy pattern are inserted into an edge region(20) of a wafer. The alignment key pattern, the monitoring pattern, and the dummy pattern are inserted into the edge region of the wafer by using 1x aligner or a 5x stepper. In the insertion process, two or more alignment key patterns, two or more monitoring patterns, and two or more dummy patterns are inserted into the edge region of the wafer.
机译:用途:提供一种使用对准器的图案插入方法,以通过在边缘区域中插入对准键图案,监视图案和伪图案来容易地在图案形成过程中执行对准操作。组成:对准键图案,监视图案和虚拟图案被插入晶圆的边缘区域(20)。通过使用1x对准器或5x步进器将对准键图案,监视图案和虚拟图案插入晶圆的边缘区域。在插入过程中,将两个或更多个对准键图案,两个或更多个监视图案以及两个或更多个虚设图案插入到晶片的边缘区域中。

著录项

  • 公开/公告号KR20050002943A

    专利类型

  • 公开/公告日2005-01-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DONGBUANAM SEMICONDUCTOR INC.;

    申请/专利号KR20030042292

  • 发明设计人 SONG HO YOUNG;

    申请日2003-06-27

  • 分类号H01L21/027;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 22:06:02

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