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PATTERN, PATTERN FORMATION PROCESS, SUBSTRATE, DISPLAY MODULE, ELECTRONIC DEVICE, AND PATTERN-READING METHOD

机译:图案,图案形成过程,基板,显示模块,电子设备和图案读取方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern which can improve the degree of freedom of a formation position of a pattern, moreover which consists of a material having low conductivity, and in which a pattern having high durability can be formed and read by a simple provision, and to provide a pattern formation process, a substrate, a display module, an electronic device and a pattern reading method.;SOLUTION: From a nozzle 27 of a droplet ejection head 25, minute droplets Fa of a functional liquid containing a functional material for forming a pattern of a transparent two-dimensional code are ejected, and droplets Fb are made to adhere to a glass substrate 10. Moreover, the droplets Fb adhering to the glass substrate 10 are dried, a functional material contained in the droplets Fb is fixed to the glass substrate 10, thereby the transparent pattern is formed on the glass substrate 10.;COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
机译:解决的问题:提供一种可以提高图案的形成位置的自由度的图案,并且该图案由具有低导电性的材料构成,并且可以通过简单的方法形成并读取具有高耐久性的图案提供,并且提供图案形成工艺,基板,显示模块,电子设备和图案读取方法。;解决方案:从液滴喷射头25的喷嘴27中,含有功能性官能团的功能液的微小液滴Fa喷射用于形成透明二维码的图案的材料,并且使小滴Fb粘附至玻璃基板10。此外,干燥粘附至玻璃基板10的小滴Fb,使小滴Fb中包含的功能材料固定在玻璃基板10上,从而在玻璃基板10上形成透明图案。版权所有:(C)2006,日本特许厅(JPO&NCIPI)

著录项

  • 公开/公告号JP2006213019A

    专利类型

  • 公开/公告日2006-08-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;

    申请/专利号JP20050030498

  • 发明设计人 MORIYAMA HIDEKAZU;MIURA HIROTSUNA;

    申请日2005-02-07

  • 分类号B32B3/30;B05D1/26;B05D3/06;B05D5/06;B05D7/24;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 21:56:47

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