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CATALYST SOLUTION FOR ELECTROLESS PLATING, AND METHOD FOR DEPOSITING ELECTROLESS-PLATED FILM

机译:用于无电镀覆的催化剂溶液和沉积无电镀膜的方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a catalyst solution for electroless plating capable of depositing an electroless-plated film having excellent adhesiveness and smoothness by providing high catalyst activity on an inactive substrate, and a method for depositing an electroless-plated film.;SOLUTION: The catalyst solution is an aqueous solution containing palladium salt, and at least one organic acid selected from succinic acid, glutaric acid, adipic acid, acetic acid, propionic acid, and salt thereof.;COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
机译:解决的问题:提供一种用于化学镀的催化剂溶液,其能够通过在非活性基板上提供高催化剂活性而沉积具有优异的粘附性和平滑度的化学镀膜,以及一种化学镀膜的沉积方法。催化剂溶液是含有钯盐和选自琥珀酸,戊二酸,己二酸,乙酸,丙酸及其盐中的至少一种有机酸的水溶液。版权所有:(C)2006,JPO&NCIPI

著录项

  • 公开/公告号JP2006052440A

    专利类型

  • 公开/公告日2006-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HYOGO PREFECTURE;

    申请/专利号JP20040234623

  • 发明设计人 YAMAGISHI NORIFUMI;

    申请日2004-08-11

  • 分类号C23C18/18;C23C18/28;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 21:53:23

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