要解决的问题:提供一种能够应用于高密度和高速目的的MRAM,其中自由层和参考层具有涡旋磁化状态。
解决方案:具有自由旋转方向的涡旋磁化状态的铁磁自由层27包含掺杂剂,以降低交换耦合常数。具有固定旋转方向的涡旋磁化状态的铁磁固定层25(参考层)包含掺杂剂以减小交换耦合常数。与使用形式各向异性来切换磁化状态的常规方法不同,因为通过利用膜特性的特性来将磁化状态切换为磁性膜,例如交换耦合常数和Mst(饱和磁通密度厚度),所以磁化状态大可以获得矫顽力。
版权:(C)2006,JPO&NCIPI
公开/公告号JP2006041537A
专利类型
公开/公告日2006-02-09
原文格式PDF
申请/专利权人 HEADWAY TECHNOLOGIES INC;
申请/专利号JP20050219594
申请日2005-07-28
分类号H01L43/08;H01F10/16;H01F10/32;H01L43/10;H01L27/105;H01L21/8246;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:51:02