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Combined high reliability contact metal/ ballast resistor/ bypass capacitor structure for power transistors

机译:高可靠性接触金属/镇流电阻/旁路电容器的组合结构,用于功率晶体管

摘要

A structure with the combined benefits of a highly reliable ohmic contact, ballast resistor, and ballast resistor bypass capacitor is provided. The benefit of these three features is combined into a single metal-semiconductor contact offering a reduction in space utilization, and complexity normally present in ballast networks associated with power devices.
机译:提供一种具有高度可靠的欧姆接触,镇流电阻器和镇流电阻器旁路电容器的组合优点的结构。这三个功能的优点组合成单个金属-半导体触点,从而降低了空间利用率,并降低了与功率设备相关的镇流器网络中通常存在的复杂性。

著录项

  • 公开/公告号US2006138597A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DAVID A. JOHNSON;

    申请/专利号US20040021676

  • 发明设计人 DAVID A. JOHNSON;

    申请日2004-12-24

  • 分类号H01L27/082;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:47:08

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