首页> 外国专利> LOW-POWER, P-CHANNEL ENHANCEMENT-TYPE METAL-OXIDE SEMICONDUCTOR FIELD-EFFECT TRANSISTOR (PMOSFET) SRAM CELLS

LOW-POWER, P-CHANNEL ENHANCEMENT-TYPE METAL-OXIDE SEMICONDUCTOR FIELD-EFFECT TRANSISTOR (PMOSFET) SRAM CELLS

机译:低功率,P通道增强型金属氧化物半导体场效应晶体管(PMOSFET)SRAM单元

摘要

Low-power, all-p-channel enhancement-type metal-oxide semiconductor field-effect transistor (PMOSFET) SRAM cells. A PMOSFET SRAM cell is disclosed. The SRAM cell can include a latch having first and second PMOSFETs for storing data. Further, a gate of the first PMOSFET is connected to a drain of the second PMOSFET at a first memory node. A gate of the second PMOSFET is connected to a drain of the first PMOSFET at a second memory node. The SRAM cell can also include third and fourth PMOSFETs forming a pull-down circuit. A source of the third PMOSFET is connected to the first memory node. Further, a source of the fourth PMOSFET is connected to the second memory node. The SRAM cell can include access circuitry for accessing data at the first and second memory nodes for read or write operations.
机译:低功耗,全p沟道增强型金属氧化物半导体场效应晶体管(PMOSFET)SRAM单元。公开了一种PMOSFET SRAM单元。 SRAM单元可以包括具有用于存储数据的第一和第二PMOSFET的锁存器。此外,第一PMOSFET的栅极在第一存储节点处连接到第二PMOSFET的漏极。第二PMOSFET的栅极在第二存储节点处连接到第一PMOSFET的漏极。 SRAM单元还可以包括形成下拉电路的第三和第四PMOSFET。第三PMOSFET的源极连接到第一存储节点。此外,第四PMOSFET的源极连接到第二存储节点。 SRAM单元可以包括访问电路,用于访问第一和第二存储节点处的数据以进行读或写操作。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号