要解决的问题:提供一种形成均匀Al膜的技术,特别是在大规模预生产的情况下,尤其是在孔或凹槽的底面上几乎没有麻烦的情况下,因为该过程的稳定性非常高改善。
解决方案:该化合物由通式[I] CH 版权:(C)2006,JPO&NCIPI
公开/公告号KR20060100195A
专利类型
公开/公告日2006-09-20
原文格式PDF
申请/专利权人 TRI CHEMICAL LABORATORIES INC.;
申请/专利号KR20050039022
申请日2005-05-10
分类号C07F5/06;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 21:24:55