机译:通过PVD方法沉积氮化硼膜:从h-BN过渡到c-BN
机译:金属硼化物的化学气相沉积:6.通过化学气相沉积由多面硼团簇和金属卤化物形成硼化钕薄膜材料
机译:寻找有前途的化学气相沉积氮化碳薄膜的前体
机译:铁电薄膜的合成与基本性质。方法材料和新型应用
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:校正:G. Papari等。非晶WSe2和MoSe2薄膜的太赫兹光谱。材料2018111613
机译:来自氮化物化合物的新型和有前途的材料。 3.超硬锡膜的性质和应用。