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Metal thin film and the produce method for development of ohmic contact using Ni-based solid solution for high-quality optical devices related to GaN

机译:用于GaN相关的高品质光学器件的金属薄膜和使用镍基固溶体开发欧姆接触的制造方法

摘要

Disclosed herein is a technique for forming a high quality ohmic contact utilizable LEDs using a gallium nitride (GaN) semiconductor. ??The ohmic contact is formed by depositing a nickel (Ni)-based solid solution on top of a p-type gallium nitride semiconductor. The ohmic contact thus formed has an excellent current-voltage characteristic and a low specific contact resistance due to an increased effective carrier concentration around the surface of the gallium nitride layer, as well as a high transmittance in the short-wavelength region. IMAGE
机译:本文公开了一种使用氮化镓(GaN)半导体形成高质量欧姆接触可利用的LED的技术。通过在p型氮化镓半导体的顶部上沉积镍(Ni)基固溶体来形成欧姆接触。由于在氮化镓层的表面周围增加的有效载流子浓度以及在短波长区域中的高透射率,因此形成的欧姆接触具有优异的电流-电压特性和低的比接触电阻。 <图像>

著录项

  • 公开/公告号KR100612832B1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-08-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20030029073

  • 发明设计人 송준오;임동석;성태연;

    申请日2003-05-07

  • 分类号H01L33;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 21:23:12

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