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POLYMER OR RESIST PATTERN, AND METAL FILM PATTERN, METAL PATTERN, AND PLASTIC MOLD USING THEREOF, AND METHODS OF FORMING THE SAMES

机译:聚合物或抗蚀剂图案,以及使用其的金属膜图案,金属图案和塑料模具,以及形成模腔的方法

摘要

Polymer or resist patterns and a metal thin pattern using the same, a metal pattern, a plastic mold and forming methods thereof are provided to obtain an aiming three-dimensional structure from the polymer or resist patterns by using a light controlling layer. Polymer or resist patterns(310) are formed on a substrate(300). A predetermined portion for being exposed is determined on the resultant structure by using a photomask. A light controlling layer(340) is arranged on a light path. The direction and transmissivity of light are controlled by adjusting properly the light controlling layer. The light controlling layer is capable of being arranged on the photomask or under the photomask.
机译:提供了聚合物或抗蚀剂图案以及使用该聚合物或抗蚀剂图案的金属薄图案,金属图案,塑料模具及其形成方法,以通过使用光控制层从聚合物或抗蚀剂图案获得目标三维结构。在基板(300)上形成聚合物或抗蚀剂图案(310)。通过使用光掩模在所得结构上确定要曝光的预定部分。光控制层(340)布置在光路上。通过适当地调节光控制层来控制光的方向和透射率。光控制层能够布置在光掩模上或在光掩模下方。

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