要解决的问题:提供一种用于厚膜的负型光刻胶组合物,其具有高的灵敏度和优选的镀覆耐久性,并且适合用作形成凸块的材料,并且提供了一种光刻胶膜及其形成方法。通过使用胶片来碰撞。
解决方案:用于厚膜的负型光刻胶组合物包含(A)线型酚醛清漆树脂,(B)增塑剂,(C)交联剂和(D)产酸剂。组分(B)是乙烯基甲基醚聚合物或乙烯基乙基醚聚合物。
版权:(C)2006,JPO&NCIPI
公开/公告号JP3895353B2
专利类型
公开/公告日2007-03-22
原文格式PDF
申请/专利权人 東京応化工業株式会社;
申请/专利号JP20050134022
申请日2005-05-02
分类号G03F7/004;G03F7/038;H01L21/027;H01L21/60;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:08:35