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Photocurable Semiconductor Nanocrystal, Photocurable Composition for Pattern Formation of Semiconductor Nanocrystal and Method of Patterning Nanocrystal using the same

机译:光固化性半导体纳米晶体,用于形成半导体纳米晶体的图案的光固化性组合物以及使用该组合物对纳米晶体进行图案化的方法

摘要

Semiconductor nanocrystals surface-coordinated with a compound containing a photosensitive functional group, a photosensitive composition comprising semiconductor nanocrystals, and a method for forming semiconductor nanocrystal pattern by producing a film using the photosensitive semiconductor nanocrystals or the photosensitive composition, exposing the film to light and developing the exposed film, are provided. The semiconductor nanocrystal pattern exhibits luminescence characteristics comparable to the semiconductor nanocrystals before patterning and can be usefully applied to organic-inorganic hybrid electroluminescent devices.
机译:与包含光敏官能团的化合物表面配位的半导体纳米晶体,包含半导体纳米晶体的光敏组合物,以及通过使用光敏半导体纳米晶体或光敏组合物制备膜,将膜曝光并显影以形成半导体纳米晶体图案的方法。提供曝光的膜。半导体纳米晶体图案显示出与图案化之前的半导体纳米晶体相当的发光特性,并且可以有效地应用于有机-无机混合电致发光器件。

著录项

  • 公开/公告号KR100697511B1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-03-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20030073338

  • 申请日2003-10-21

  • 分类号G03F7;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 20:32:38

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