首页> 外国专利> Bolometric detector, a device for infrared detection, use such a detector, and the method of production of detectors

Bolometric detector, a device for infrared detection, use such a detector, and the method of production of detectors

机译：测光检测器，用于红外线检测的设备，使用该检测器的方法以及检测器的制造方法

页面导航

摘要
著录项
相似文献

摘要

1.u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 containing sensitive part or the membrane containing one or more layers sensitive mater: u0438u0430u043bu0430 (6), a specific resistance which varies with temperature; the first u044du043bu0435u043au0442u0440u043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0435 elements electrically united with the grid (1) u0441u0447u0438u0442u044bu0432u0430u043du0438u00a0 data u0441u0432u00a0u0437 anna with u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u043c detector and operating with one handas the electrodes of the detector and the u0434u043bu00a0 u043du0430u0445u043eu0434u00a0u0449u0438u0435u0441u00a0 u0434u043bu00a0 it in contact with the sensitive material (6) and, on the other hand, acting as a u043fu043eu0433u043bu043eu0442u0438u0442u0435u043bu00a0 er u043bu0435u043au0442u0440u043eu043cu0430u0433u043du0438u0442u043du043eu0433u043e u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0; second u044du043bu0435u043au0442u0440u043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0435 elements with floating potential, existing only as a scavenger of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 for less a least one support area (3) u0434u043bu00a0 sensitive partu0432u044bu043fu043eu043bu043du00a0u044eu0449u0443u044e function u043fu043eu0437u0438u0446u0438u043eu043du0438u0440u043eu0432u0430u043du0438u00a0 the sensitive part and the electric conductor on the circuit u0441u0447u0438u0442u044bu0432u0430u043du0438u00a0 data; at least e, one u0442u0435u0440u043cu043eu0438u0437u043eu043bu0438u0440u0443u044eu0449u0443u044e structure (4), electrically and mechanically u0441u0432u00a0u0437u044bu0432u0430u044eu0449u0443u044e each supporting area (3) with the sensitive part of the u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0, province; u043eu0434u00a0u0449u0438u0435 elements distributed in the form of two u043fu0435u0440u0435u0441u0435u043au0430u044eu0449u0438u0445u0441u00a0,superimposed on each other nets (5a, 5b) u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0445 tracks, with u043fu0435u0440u0432u0430u00a0 (5a) of the two nets contains all of the elements of the first u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0435.;2. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on 1, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0, nets (5a) and (5b) fully or partially superimposed on each other.;3. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on 1 or 2, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0, u0443u043au0430u0437u0430u043du043du0430u00a0 u043fu0435u0440u0432u0430u00a0 grid (5a) also contains a second u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0435 elements, but p on at least two (5u04301, 5u04302, 5u04303, 5u04304) of u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0445 tracks that u0441u043eu0441u0442u0430u0432u043bu00a0u044eu0442, u043du0430u0445u043eu0434u00a0u0442u0441u00a0 in contact with the sensitive material (6), u0441u043eu0441u0442u0430u0432u043bu00a0u044eu0449u0438u043c sensitive cha ism. essentially throughout their length.;4. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on p.3, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 so that at least two u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0435 tracks the second grid (5b) u043du0430u0445u043eu0434u00a0u0442u0441u00a0 in u0447u0435u0440u0435u0434u0443u044eu0449u0435u043c u0441u00a0 contact with these special lanes (5u04301, 5u04302, 5u04303, 5u04304) of the first grid (5a), u043au043eu0442u043eu0440u0430u00a0 u043du0430u0445u043eu0434u0438u0442u0441u00a0 in contact with the sensitive material (6), u0441u043eu0441u0442u0430u0432u043bu00a0u044eu0449u0438 m a sensitive part.;5. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on 1 or 2, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 so that appropriate u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0435 tracks of each of the two nets (5a, 5b) u00a0u0432u043bu00a0u044eu0442u0441u00a0 ol u00a0u043cu044bu043cu0438 and parallel to each other and the fact that u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0435 tracks the first grid (5a) u043du0430u0445u043eu0434u00a0u0442u0441u00a0 under u043fu0440u00a0u043cu044bu043cu0438 angles to u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u043c. u0441u043eu0441u0442u0430u0432u043bu00a0u044eu0449u0438u043c second grid (5b).;6. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on 1, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0, two screens (5a) and (5b) are located on the upper surface of the u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0445 tracks u00a0 sensitive material (6).;7. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on p.6, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 because: u043fu0435u0440u0432u0430u00a0 grid (5a) u00a0u0432u043bu00a0u0435u0442u0441u00a0 electrically isolated from u0441u043bu043eu00a0 sensitive material (6) through the first u0441u043bu043eu00a0 made from ier u043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7a), a local u043eu0442u0432u0435u0440u0441u0442u0438u00a0 opposite the areas of contact between the special u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u043cu0438 lanes (5u04301, 5u04302, 5u04303,5u04304) of the first grid (5a) and a layer of the sensitive material (6), between the existing only as sinks (5u0430u0430) u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u043cu0438 paths of the first the grid (5a) and (5b) of the second u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u043cu0438 paths mesh is the second layer of u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7b), and the contact between the special lanes (5u04301, 5u04302 , 5u04303,5u04304) to the first grid (5a) and some u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u043cu0438 paths the second grid (5) received in the u043eu0442u0432u0435u0440u0441u0442u0438u00a0u0445. (8) of the second layer u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7b).;8. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on 1, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 because one of the nets (5a, 5b) located under a layer of a sensitive material (6), and u0434u0440u0443u0433u0430u00a0 mesh located above the layer of the sensitive material (6).;9. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on p.8, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 because: u043fu0435u0440u0432u0430u00a0 grid (5a) is located under a layer of the sensitive material (6) and u00a0u0432u043bu00a0u0435u0442u0441u00a0 electrically insulated from the latter by first wow u0441u043bu043eu00a0 made from u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7a), a local u043eu0442u0432u0435u0440u0441u0442u0438u00a0 opposite the areas of contact between the special u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u043cu0438 lanes (5u04301 , 5u04302, 5u04303,5u04304) of the first grid (5a) and a layer of the sensitive material (6); u0432u0442u043eu0440u0430u00a0 grid (5b) located over the layer of the sensitive material (6) and u00a0u0432u043bu00a0u0435u0442u0441u00a0 electrically from the u043eu043bu0438u0440u043eu0432u0430u043du043du043eu0439 from the last through the second u0441u043bu043eu00a0,made of u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7b), and the point of electrical contact between the u0434u0432u0443u043cu00a0 nets (5a) and (5b) are obtained by cutting holes in the u0432u044bu043fu043eu043bu043du0435u043du0438u00a0 e of the material (6) and the second layer u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7b).;10. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on p.8, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 because: u043fu0435u0440u0432u0430u00a0 grid (5a) is located over the layer of the sensitive material (6) and u00a0u0432u043bu00a0u0435u0442u0441u00a0 electrically insulated from the latter by first wow u0441u043bu043eu00a0 made from u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7a), a local u043eu0442u0432u0435u0440u0441u0442u0438u00a0 opposite the areas of contact between the special lanes (5u04301, 5u04302, 5u04303,5u04304) of the first grid (5a) and u0441u043bu043eu00a0 sensitive material (6); u0432u0442u043eu0440u0430u00a0 grid (5b) located under a layer of the sensitive material (6) and u00a0u0432u043bu00a0u0435u0442u0441u00a0 electrically out u043bu0438u0440u043eu0432u0430u043du043du043eu0439 from the last through the second u0441u043bu043eu00a0,made of u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7); and the point of electrical contact between the u0434u0432u0443u043cu00a0 nets (5a) and (5b) are obtained by cutting holes in u0438u0437u0433u043eu0442u043eu0432u043bu0435u043du0438u00a0 the layer of material (6) and the second layer u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7b).;11. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector for electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 p.6 or 8, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 so that all u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0435 tracks (5a) of the first grid u043du0430u0445u043eu0434u00a0u0442u0441u00a0 in contact with a layer of u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (6).;12. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on p.u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 11, so that u0443u043au0430u0437u0430u043du043du0430u00a0 grid (5a) is located over the layer of the sensitive material (6); a layer of u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7b) is located between the u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u043cu0438 the lanes of the first grid (5a) and (5b) of the second u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u043cu0438 paths mesh; and the contact between the first grid u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u043cu0438 paths (5a) and some provo u0434u00a0u0449u0438u043cu0438 tracks the second grid (5b) is u043eu0442u0432u0435u0440u0441u0442u0438u00a0u0445 (8)of the u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu043c layer (7b).;13. u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 detector of electromagnetic u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 on p.u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 11, so that u0443u043au0430u0437u0430u043du043du0430u00a0 grid (5a) is located under a layer of the sensitive material (6); u0432u0442u043eu0440u0430u00a0 grid (5b) located over the layer of the sensitive material 6) and u00a0u0432u043bu00a0u0435u0442u0441u00a0 electrically isolated from the latter by u0441u043bu043eu00a0,carried out from the u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7b); points of electrical contact between the u0434u0432u0443u043cu00a0 nets (5a) and (5b) are obtained by cutting holes in the layer u0432u044bu043fu043eu043bu043du0435u043du0438u00a0 cc u0430u0437u0430u043du043du043eu0433u043e material (6) and a layer of u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7b).;14. the device u0434u0435u0442u0435u043au0442u0438u0440u043eu0432u0430u043du0438u00a0 infrared u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e type u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0435u0435u0441u00a0 because it uses one or more sensors for u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0445 any of the u043fu043f.1 - 13, and the detector (detector) is connected (connected) to the u0441u0447u0438u0442u044bu0432u0430u043du0438u00a0 data (1) through the structure type of bar (3).;15. the device u0434u0435u0442u0435u043au0442u0438u0440u043eu0432u0430u043du0438u00a0 infrared u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e type on p.14, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0435u0435u0441u00a0 because it has structure in the form of array containing, at m u0435u0440u0435, two u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0445 detector.;16.method u0438u0437u0433u043eu0442u043eu0432u043bu0435u043du0438u00a0 detector of infrared u0438u0437u043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e type comprising a u0441u0435u0431u00a0, u043du0430u0447u0438u043du0430u00a0 with schemes u0441u0447u0438u0442u044bu0432u0430u043du0438u00a0 data, in particular for the the silicon product (1) stages in which: the first sacrificial layer to form the first support the silicon product.designed u0434u043bu00a0 u0443u0434u0430u043bu0435u043du0438u00a0 by any known means after u0438u0437u0433u043eu0442u043eu0432u043bu0435u043du0438u00a0 detector to u0442u0435u0440u043cu043eu0438u0437u043eu043bu00a0u0446u0438u0438 scheme u0441u0447u0438u0442u044bu0432u0430u043du0438u00a0 data (1) of u0434u0435u0442u0435u043au0442u0438u0440u0443u044eu0449u0435u0433u043e u043cu043eu0434u0443u043bu00a0 or sensitive part; forming a layer of a sensitive material on the sacrificial layer u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e support; besieging made of d.l. u0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material layer (7a) on the sensitive layer (6); uset u043bu0438u0442u043eu0433u0440u0430u0444u0438u0447u0435u0441u043au0443u044e mask and etching u0432u044bu043fu043eu043bu043du00a0u044eu0442 u0434u043bu00a0 u043fu043eu043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 u0443u0434u043bu0438u043du0435u043du043du044bu0445 openings of limited thickness of the layer u0434u043bu00a0 u0441u043eu0437u0434u0430u043du0438u00a0 areas of contact with the layer h u0443u0432u0441u0442u0432u0438u0442u0435u043bu044cu043du043eu0433u043e material (6) is under siege from the first layer u044du043bu0435u043au0442u0440u043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0435u0433u043e material; use u043bu0438u0442u043eu0433u0440u0430u0444u0438u0447u0435u0441u043au0443u044e mask u0434u043bu00a0 u0438u0437u0433u043eu0442u043eu0432u043bu0435u043du0438u00a0 first nets (5a) u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0445 before horns, some of which are located opposite the holes.of u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material layer (7a) and the u043du0430u0445u043eu0434u00a0u0449u0438u0445u0441u00a0 in electrical contact with the sensitive material (6) has u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449 s poles or bar (3) by u043du0430u043du0435u0441u0435u043du0438u00a0 new u043bu0438u0442u043eu0433u0440u0430u0444u0438u0447u0435u0441u043au043eu0439 masks designed u0434u043bu00a0 protection throughout the structure except the small holes.with the u043eu0442u0432u0435u0440u0441u0442u0438u00a0 u0442u0440u0430u0432u00a0u0442 in surface layers in the next u043fu043eu0440u00a0u0434u043au0435: u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0439 material (5a), a dielectric material (7a), (6 u0431u043eu043bu043eu043cu0435u0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0438u0439 material ), then through sacrificial layer to the surface contact, the previously executed on the surface pattern (1) u0441u0447u0438u0442u044bu0432u0430u043du0438u00a0 data, then by u043eu0441u0430u0436u0434u0435u043du0438u00a0 at me re, a metal u0441u043bu043eu00a0,then, by u0442u0440u0430u0432u043bu0435u043du0438u00a0 this / these metal u0441u043bu043eu00a0 (layers) by u043bu0438u0442u043eu0433u0440u0430u0444u0438u0447u0435u0441u043au043eu0439 masks in the side of the pillars (3); a second layer of material u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e besieging a (7b) on the screen (5a); use u043bu0438u0442u043eu0433u0440u0430u0444u0438u0447u0435u0441u043au0443u044e mask and etching u0432u044bu043fu043eu043bu043du00a0u044eu0442 u0434u043bu00a0 u043fu043eu043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 holes (8) in the u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu043c layer (7b) located on the wire u00a0u0449u0438u0445 tracks nets (5a).u043au043eu0442u043eu0440u0430u00a0 u043du0430u0445u043eu0434u0438u0442u0441u00a0 in contact with the sensitive material (6); a second layer of material on a layer u044du043bu0435u043au0442u0440u043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0435u0433u043e besieging u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au043eu0433u043e material (7b); use t u043bu0438u0442u043eu0433u0440u0430u0444u0438u0447u0435u0441u043au0443u044e mask u0434u043bu00a0 u0438u0437u0433u043eu0442u043eu0432u043bu0435u043du0438u00a0 second grid (5b) u043fu0440u043eu0432u043eu0434u00a0u0449u0438u0445 paths, essentially based on u043fu0440u00a0u043cu044bu043c angle on.u0441u043eu0441u0442u0430u0432u043bu00a0u044eu0449u0438u0445 first grid (5a); use u043bu0438u0442u043eu0433u0440u0430u0444u0438u0447u0435u0441u043au0443u044e mask and etching u0432u044bu043fu043eu043bu043du00a0u044eu0442 u0434u043bu00a0 u043fu043eu043bu0443u0447u0435u043du0438u00a0 supporting console (4) and a peripheral circuit u043cu0435u043cu0431 u043eu043fu0440u0435u0434u0435u043bu0435u043du0438u00a0 the wound or sensitive part of the detector; and, finally, u0443u0434u0430u043bu00a0u044eu0442 sacrificial layer so that the membrane or u0447u0443u0432u0441u0442u0432u0438u0442u0435u043bu044cu043du0430u00a0 part was hung on substrate (1).

机译：1. u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁探测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0包含敏感部分或包含一层或多层敏感物质的膜： u0438 u0430 u043b u0430（6），电阻率随温度而变化;第一个 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u043e u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0435与网格电连接的元素（1） u0441 u0447 u0438 u0442 u044b u0432 u0430 u043d u0438 u00a0数据 u0441 u0432 u00a0 u0437 anna与 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u043a u0438 u043c检测器并用一只手作为检测器和 u0434 u043b u00a0 u043d u0430 u0445 u043e u0434 u0434 u00a0 u0449 u0438 u0435 u0435 u0431 u00a0 u0434 u043b u00a0与敏感材料（6）接触，另一方面，它充当 u043f u043e u0433 u043b u043e u0442 u0438 u0442 u0435 u043b u00a0 er u043b u0435 u043a u0442 u0440 u043e u043c u0430 u0433 u043d u0438 u0442 u043d u043e u0433 u043e u0438 u0437 u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0;第二个 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u043e u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u043a u00a0 u0449 u0438 u0435具有浮动电势的元素，仅作为电磁 u0438 的清除剂u0437 u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0至少有一个支撑区域（3） u0434 u043b u00a0敏感部分 u0432 u044b u043f u043e u043e u043b u043d u00a0 u044e u0449 u0443 u044e功能 u043f u043e u0437 u0438 u0446 u0438 u043e u043d u0438 u0440 u043e u043e u0432 u0430 u043d u0438 u00a0电路上的敏感部分和电导体 u0441 u0447 u0438 u0442 u044b u0432 u0430 u043d u0438 u00a0数据;至少一个e， u0442 u0435 u0440 u043c u043e u0438 u0437 u043e u043e u043b u0438 u0440 u0443 u044e u0449 u0443 u044e电气和机械结构 u0441 u0432 u00a0 u0437 u044b u0432 u0430 u044e u0449 u0443 u044e每个支撑区域（3），其中敏感部分为 u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0，省; u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0435元素以两个 u043f u0435 u0440 u0435 u0441 u0435 u043a u0430 u044e u0449 u0438 u0445 u0441 u00a0的形式分布彼此互通的网（5a，5b） u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0445轨道，两个网中的 u043f u0435 u0440 u0432 u0430 u00a0（5a）包含第一个 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0435的所有元素。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁检测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 1， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0上的网（5a）和（5b）完全或部分重叠。; 3。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁检测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 1或2上的u00a0， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0， u0443 u043a u0430 u0437 u0430 u0430 u043d u043d u043f u0435 u0440 u0432 u0430 u00a0网格（5a）还包含第二个 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0435元素，但p至少为两个（5 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0445的u04301、5 u04302、5 u04303、5 u04304）跟踪 u0441 u043e u043e u0441 u0442 u0430 u0432 u043b u00a0 u044e u0442， u043d u0430 u0445 u043e u0434 u00a0 u0442 u0441 u00a0与敏感材料（6）接触， u0441 u043e u0441 u0441 u0442 u0430 u0432 u043b u00a0 u044e u0449 u0438 u043c敏感频道。基本上整个长度; 4。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁检测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438第3页上的u00a0， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0，以便至少两个 u043f u0440 u043e u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0435跟踪第二个网格（5b） u043d u0430 u0445 u043e u0434 u00a0 u0442 u0441 u00a0在 u0447 u0435 u0440 u0435 u0434 u0434 u0443 u044e u0449 u0435 u043c u0441 u00a0与第一个网格（5a）的这些特殊通道（5 u04301、5 u04302、5 u04303、5 u04304）联系， u043a u043e u0442 u043e u0440 u0430 u00a0 u043d u0430 u0445 u043e u0434 u0438 u0442 u0441 u00a0与敏感材料接触（6）， u0441 u043e u0441 u0442 u0430 u0432 u043b u00a0 u044e u0449 u0438 ma敏感部分; 5。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁检测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 1或2上的u00a0， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0，以便适当的 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0435轨道两个网（5a，5b）中的每个网 u00a0 u0432 u043b u00a0 u044e u0442 u0441 u00a0 ol u00a0 u043c u044b u043c u0438彼此平行，并且 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0435跟踪第一个网格（5a） u043d u0430 u0445 u043e u0434 u00a0 u0442 u0441 u0040在 u043f u0440 u00a0下 u044b u043c u0438与 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u043c的夹角。第二个网格（5b）; 6。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁检测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 u 1上的u00a0， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0，两个屏幕（5a）和（5b）位于 u043f u0440的上表面 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0445跟踪 u00a0敏感材料（6）.; 7。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁检测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438第6页上的u00a0， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0因为： u043f u0435 u0440 u0432 u0430 u00a0网格（5a） u00a0 u0432 u043b u00a0 u0435 u0442 u0441 u00a0通过由ier u043b u0435 u043a制成的第一个 u0441 u043b u043b u043e u00a0与 u0441 u043b u043e u00a0电气隔离 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e材料（7a），在接触区域对面的是本地 u043e u0442 u0432 u0432 u0435 u0440 u0441 u0442 u0432 u0435在第一个网格（5a）的特殊 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u043c u0438车道（5 u04301、5 u04302、5 u04303,5 u04304）之间和一层敏感材料（6），位于仅作为接收器（5 u0430 u0430） u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u043c u0438路径之间第一个 s的第二个网格（5a）和（5b） u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u043c u0438路径网格是 u0434 u0438 的第二层u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e材料（7b），以及特殊通道之间的接触点（5 u04301，5 u04302，5 u04303,5 u04304）到第一个网格（5a），并且某些 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u043c u0438将在 u043e u0442 u0432 u0435 u0440 u0441 u0442 u0438 u00a0 u0445。（8）第二层 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e材料（7b）.; 8。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁探测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 1， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0上的u00a0，因为其中一个网（5a，5b）位于一层敏感材料（6）下方，和位于敏感材料层（6）上方的 u0434 u0440 u0443 u0433 u0430 u00a0网格; 9。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁检测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438第8页上的u00a0， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0是因为： u043f u0435 u0440 u0432 u0430 u00a0位于网格（5a）在敏感材料层（6）的下方，并且 u00a0 u0432 u043b u00a0 u0435 u0442 u0441 u00a0通过首先由 u0434 u0438 制成的哇 u0441 u043b u043e u00a0与后者电绝缘u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e材料（7a），本地 u043e u0442 u0432 u0432 u0435 u0440 u0441 u0442 u0438 u00a0位于特殊 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u043c u0438车道之间的接触区域对面（5 u04301，5 u04302、5 u04303,5 u04304）第一格栅（5a）和一层敏感材料（6）; u0432 u0442 u043e u0440 u0430 u00a0位于敏感材料层（6）和 u00a0 u0432 u043b u00a0 u0435 u0442 u0442 u0441 u00a0上方的网格（5b） u043b u0438 u0440 u043e u0432 u0430 u043d u043d u043e u0439从上到下 u0441 u043b u043e u00a0，由 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e材料（7b），并且 u0434 u0432 u0443 u043c u00a0网（5a）和（5b）之间的电接触点是通过在 u0432 u044b u043f u043e u043b u043d u0435 u043d u0438 u00a0 e（6）和第二层 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u043e u0433 u043e ）;; 10。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁检测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438第8页上的u00a0， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0是因为： u043f u0435 u0440 u0432 u0430 u00a0位于网格（5a）在敏感材料层（6）上，并且 u00a0 u0432 u043b u00a0 u0435 u0442 u0441 u00a0通过首先由 u0434 u0438 制成的哇 u0441 u043b u043e u00a0与后者电绝缘u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e材料（7a），本地 u043e u0442 u0432 u0432 u0435 u0440 u0441 u0442 u0438 u00a0与第一个网格（5a）的特殊通道（5 u04301、5 u04302、5 u04303,5 u04304）和敏感材料（6）之间的接触区域相对; u0432 u0442 u043e u0440 u0430 u00a0位于敏感材料层（6）下方的网格（5b），并且 u00a0 u0432 u043b u00a0 u0435 u0442 u0441 u00a0断电 u043b u0438 u0440 u043e u0432 u0430 u043d u043d u043e u0439从最后到第二个 u0441 u043b u043e u00a0，由 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e材料（7）; u0434 u0432 u0443 u043c u00a0网（5a）和（5b）之间的电接触点是通过在 u0438 u0437 u0433 u043e u0442 u043e u0432 u043b u0435 u043d u0438 u00a0材料层（6）和第二层 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u0431 u043a u043e u0433 u043e （7b）.; 11。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁探测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0第6或8页， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0，以便所有 u043f u0440 u043e u0432 u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0435跟踪第一个网格 u043d u0430 u0445 u043e u0434 u00a0 u0442 u0441 u00a0的第（5a）条接触的 u0431 u043e u043b u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e材料（6）.; 12。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁检测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 p。 u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0 11上的u00a0，因此 u0443 u043a u0430 u0437 u0430 u0430 u043d u043d u0430 u0030 u00a0栅格（5a）位于敏感材料（6）的层上; u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u0431 u043a u043e u0433 u043e材料（7b）层位于 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u043c u0438第二个 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438的第一个网格（5a）和（5b）的车道u043c u0438路径网格;和第一个网格 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u043c u0438路径（5a）与某些provo u0434 u00a0 u0449 u0438 u043c u0438之间的接触第二个网格（5b）是 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u0435 u043a u043a u0442 u0440 u0438 的 u043e u0442 u0432 u0435 u0440 u0441 u0442 u0438 u00a0 u0445（8） u0447 u0435 u0441 u043a u043e u043c层（7b）。; 13。 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439电磁检测器 u0438 u0437 u043b u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 p。 u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0 11上的u00a0，因此 u0443 u043a u0430 u0437 u0430 u0430 u043d u043d u0430 u0030 u00a0栅格（5a）位于敏感材料（6）的下面; u0432 u0442 u043e u0440 u0430 u00a0位于敏感材料层上方的网格（5b）6）和 u00a0 u0432 u043b u00a0 u0435 u0442 u0441 u0040与后者通过电隔离u0441 u043b u043e u00a0，是从 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u043e u0433 u043e材料（7b）执行的; u0434 u0432 u0443 u043c u00a0网（5a）和（5b）之间的电接触点是通过在 u0432 u044b u043f u043e u043b u043d u0435 u043d u043d u00a0 cc u0430 u0437 u0430 u043d u043d u043e u0433 u043e材料（6）和一层 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e材料（7b）;; 14。设备 u0434 u0435 u0442 u0435 u043a u0442 u0438 u0440 u043e u0432 u0430 u043d u0438 u00a0红外线 u0438 u0437 u043b u0443 u0447 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u043e u0433 u043e类型 u043e u0442 u043b u043b u0438 u0447 u0430 u044e u043e u043e u0435 u0441 u00a0，因为它将一个或多个传感器用于 u0431 u043e u043b u043e u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0445任何 u043f u043f.1-13，并且检测器（检测器）通过条形图的结构类型（）连接到 u0441 u0447 u0438 u0442 u044b u0432 u0430 u043d u0438 u00a0数据（1） 3）.; 15。设备 u0434 u0435 u0442 u0435 u043a u0442 u0438 u0440 u043e u0432 u0430 u043d u0438 u00a0红外线 u0438 u0437 u043b u0443 u0447 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u0433 u043e类型在第14页， u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0435 u0435 u0441 u00a0，因为它具有数组形式的结构，在m u0435 u0440 u0435处包含两个 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0445检测器;; 16。方法 u0438 u0437 u0433 u043e u0442 u043e u0432 u043b u0435 u043d u0438 u00a0红外检测器 u0438 u0437 u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0 u0431 u043e u043b u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0440 u0438 u0447 u0435 u0435 u0441 u043a u043e u043e u0433 u0431类型 u0435 u0431 u00a0， u043d u0430 u0447 u0438 u043d u0430 u00a0和方案 u0441 u0447 u0438 u0442 u044b u0432 u0430 u043d u043d u0438 u00a0数据，尤其是针对硅产品（1）在其中形成第一个牺牲层的第一个支撑硅产品的阶段。通过在 u0438 u0437 之后的任何已知方式设计了 u0434 u043b u00a0 u0443 u0434 u0430 u043b u0435 u043d u0438 u00a0 u0433 u043e u0442 u043e u0432 u043b u0435 u043d u0438 u00a0检测器到 u0442 u0435 u0440 u043c u043e u0438 u0437 u043e u043e u043b u00a0 u0446 u0438 u0438方案 u0434 u0435 u0442 u0435 u043a u0442 u0438 u0440 u0443 u044e u0449 u0435 u0440 u0433 u044a u0442 u0447 u0438 u0442 u044b u0432 u0430 u043d u043e u043c u043e u0434 u0443 u043b u00a0或敏感部分;在牺牲层上形成敏感材料层 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e支持;由d.l.围困 u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e位于敏感层（6）上的材料层（7a）;使用 u043b u0438 u0442 u043e u0433 u0440 u0430 u0444 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0443 u044e遮罩和蚀刻 u0432 u044b u043f u043e u043e u043b u043d u0040 u0442 u0434 u043b u00a0 u043f u043e u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0 u0443 u0434 u043b u0438 u043d u0435 u043d u043d u043d u044b u04b的厚度限制 u0434 u043b u00a0 u0441 u043e u0437 u0434 u0430 u043d u0438 u00a0与层h接触的区域 u0443 u0432 u0441 u0442 u0432 u0432 u0438 u0442 u0435 u043b u044c u043d u043e u0433 u043e从第一层开始对其进行围攻 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u043e u043f u0440 u043e u0432 u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0435 u0433 u043e材料;使用 u043b u0438 u0442 u043e u0433 u0440 u0430 u0444 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0443 u044e蒙版 u0434 u043b u00a0 u0438 u0437 u0433 u043e u0442 u043e u0432 u043b u0435 u043d u0438 u00a0第一网（5a） u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0445在喇叭前，其中一些位于孔的对面。 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u0433 u043e材料层（7a）和 u043d u0430 u0445 u043e u0434 与敏感材料（6）电接触的u00a0 u0449 u0438 u0445 u0441 u00a0具有 u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449的极或杆（3）由 u043d u0430 u043d u0435 u0441 u0435 u043d u0438 u00a0新 u043b u0438 u0442 u043e u0433 u0440 u0430 u0444 u0438 u0447 u0435 u0435 u0441 u043a u043e u0439蒙版已设计 u0434除小孔外，整个结构都具有u043b u00a0保护，其中s中的 u043e u0442 u0432 u0435 u0440 u0441 u0442 u0438 u00a0 u0442 u0440 u0430 u0432 u0040下一个 u043f u043e u0440 u00a0 u0434 u043a u0435中的表面层： u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0439材料（5a），介电材料（7a ），（6 u0431 u043e u043b u043e u043c u0435 u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0439材料），然后通过牺牲层到表面接触，先前在表面图案（1） u0441 u0447 u0438 u0442 u044b u0432 u0430 u043d u0438 u00a0数据，然后通过 u043e u0441 u0430 u0436 u0434 u0435 u0435 u043d u0438 u00a0 ，一种金属 u0441 u043b u043e u00a0，然后由 u0442 u0440 u0430 u0432 u043b u0435 u043d u0438 u00a0这种 /这些金属 u0441 u043b u043e u00a0（层数） u043b u0438 u0442 u043e u0433 u0440 u0430 u0444 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0439蒙版侧面的蒙版（3）;第二层材料 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u043e u0433 u043e用屏幕（5a）围住（7b）;使用 u043b u0438 u0442 u043e u0433 u0440 u0430 u0444 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0443 u044e遮罩和蚀刻 u0432 u044b u043b u043f u043e u043b u043d u00a0 u044 u0442 u0434 u043b u00a0 u043f u043e u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0 u0434 u0438 u044d u043d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438中的孔（8） u0447 u0435 u0441 u043a u043e u043c位于电线 u00a0 u0449 u0438 u0445轨道网（5a）上的层（7b）。 u043a u043e u0442 u043e u043e u0440 u0430 u00a0 u043d u0430 u0445 u043e u0434 u0438 u0442 u0441 u00a0与敏感材料接触（6）; u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u043e u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0435 u0433 u0433 u043e围墙 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u043e u0433 u043e材料（7b）;使用t u043b u0438 u0442 u043e u0433 u0440 u0430 u0444 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0443 u044e面具 u0434 u043b u00a0 u0438 u0437 u0433 u043e u0442 u043e u0432 u043b u0435 u043d u0438 u00a0第二个网格（5b） u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u00a0 u0449 u0438 u0445路径，基本上基于 u043f u0440 u00a0 u0441 u043e u0441 u0442 u0430 u0432 u043b u00a0 u044e u0449 u0438 u0445第一栅格（5a）;使用 u043b u0438 u0442 u043e u0433 u0440 u0430 u0444 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0443 u044e遮罩和蚀刻 u0432 u044b u043b u043f u043e u043b u043d u00a0 u044 u0442 u0434 u043b u00a0 u043f u043e u043b u0443 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0支持控制台（4）和外围电路 u043c u0435 u043c u0431 u043e u043f u0440 u0435 u0434 u0435 u043b u0435 u043d u0438 u00a0检测器的伤口或敏感部分;最后是 u0443 u0434 u0430 u043b u00a0 u044e u0442牺牲层，这样膜或 u0447 u0443 u0432 u0441 u0442 u0432 u0438 u0442 u0442 u0435 u043b u044c u043d将u0430 u00a0部件悬挂在基板（1）上。

著录项

公开/公告号RU2006108084A

专利类型
公开/公告日2007-09-27

原文格式PDF
申请/专利权人 ЮЛИС (FR);
展开▼

申请/专利号RU20060108084
发明设计人 ВИЛЕН МИШЕЛЬ (FR);
展开▼

申请日2006-03-15
分类号G01T1/00;
国家 RU
入库时间 2022-08-21 20:30:51

相似文献

专利
外文文献
中文文献