机译:晶闸管系统中用作控制晶闸管的晶闸管,其晶格缺陷区位于n掺杂的点火级发射极和n掺杂的基极之间,半导体本体带有晶格缺陷密封,并在该区域中局部添加
公开/公告号DE102006000903A1
专利类型
公开/公告日2007-07-12
原文格式PDF
申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;
申请/专利号DE20061000903
申请日2006-01-05
分类号H01L29/74;H01L21/265;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 20:29:31