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Substrate fabrication by bonding a useful element of a first material to a support of a second material with the deposition of an interposed amorphous layer

机译:通过将第一种材料的有用元素粘合到第二种材料的支撑体上并沉积一层非晶层的方法来进行衬底制造

摘要

Techniques are shown in which substrates having a first layer of a first material and second layer of a second material, wherein the second material is less noble than the first material, is provided by bonding the first and second layers together with an amorphous layer interposed there between. The amorphous material may be deposited on a bonding face of the first layer, second layer, or both, before the operation of bonding the first and second layers. The layer with less noble material may be a supporting layer and the other layer may be an active layer for forming components in optics, electronics, or opto-electronics. The amorphous layer may be polished before the bonding operation.
机译:示出了这样的技术,其中通过将第一层和第二层以及插入其中的非晶层粘合在一起来提供具有第一材料的第一层和第二材料的第二层的基板,其中第二材料比第一材料的贵度低。之间。在结合第一层和第二层的操作之前,可以将非晶材料沉积在第一层,第二层或两者的结合面上。具有较少贵金属的层可以是支撑层,而另一层可以是用于形成光学器件,电子器件或光电器件中的组件的有源层。可以在结合操作之前抛光非晶层。

著录项

  • 公开/公告号DE60127402D1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-05-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES;

    申请/专利号DE2001627402T

  • 发明设计人 AUBERTON-HERVE ANDRE;

    申请日2001-06-15

  • 分类号C23C14/14;H01L21/762;H01L21/02;H01L27/12;H01L31/04;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 20:28:15

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