机译:EUV投影显微照相术的照明光学系统,包括照明光学系统的照明系统,包括照明系统的投影阿林格成像系统,制造微结构元素的方法以及所获得的微结构元素
公开/公告号JP2008135743A
专利类型
公开/公告日2008-06-12
原文格式PDF
申请/专利权人 CARL ZEISS SMT AG;
申请/专利号JP20070300430
申请日2007-11-20
分类号H01L21/027;G03F7/20;G02B19/00;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 20:25:46