首页> 外国专利> Method for manufacturing a resistively switching memory cell and memory device based thereon

Method for manufacturing a resistively switching memory cell and memory device based thereon

机译:电阻切换存储单元的制造方法以及基于该方法的存储装置

摘要

The invention relates to a method for manufacturing at least one phase change memory cell. The method at least fabricating at least one first lamellar spacer of conductive material, which is electrically coupled to the PCM material of the memory cell; fabricating at least one second lamellar spacer on top of the first lamellar spacer, wherein the second lamellar spacer crosses the first lamellar spacer in the area of the PCM material; partially removing the first lamellar spacer, wherein the second lamellar spacer serves as a hardmask for partially removing the first lamellar spacer, so that the first lamellar spacer forms at least one electrode contacting an area of PCM material.
机译:本发明涉及一种用于制造至少一个相变存储单元的方法。该方法至少制造至少一个导电材料的第一层状间隔物,该第一层状间隔物电耦合到存储单元的PCM材料;在第一层状间隔物的顶部上制造至少一个第二层状间隔物,其中第二层状间隔物在PCM材料的区域中与第一层状间隔物相交;部分地去除第一层状间隔物,其中第二层状间隔物用作用于部分地去除第一层状间隔物的硬掩模,使得第一层状间隔物形成至少一个接触PCM材料区域的电极。

著录项

  • 公开/公告号US7323357B2

    专利类型

  • 公开/公告日2008-01-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HARALD SEIDL;

    申请/专利号US20050280864

  • 发明设计人 HARALD SEIDL;

    申请日2005-11-17

  • 分类号H01L21/06;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 20:09:37

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号