机译:导体层图案,基于导体层图案的光透射电磁波屏蔽构件及其制造方法,以及用于制造方法的板的导电性基础和制造方法
要解决的问题:提供便于定位等的导体层图案以进行处理和检查,以提供具有导体层图案的具有导体层图案的基底,并提供电磁波屏蔽构件。
解决方案:提供导体层图案,使得导体层具有预定图案,并且在形成图案的结合物中具有预定结合(特定结合)内。提供与圆周图案不同的图案。此外,提供具有具有导体层图案的导体层图案的基底和电磁波屏蔽构件。
版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2009158678A
专利类型
公开/公告日2009-07-16
原文格式PDF
申请/专利权人 HITACHI CHEM CO LTD;
申请/专利号JP20070334083
发明设计人 TOSAKA MINORU;UEHARA TOSHISHIGE;NAOYUKI SUSUMU;SUZUKI KYOSUKE;NEGISHI MASAMI;KIKUHARA YOSHIHITO;
申请日2007-12-26
分类号H05K9;B32B33;B32B7/02;H01B5/14;H01B13;G09F9;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:45:32