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TWO-DIMENSIONAL ARRAYS OF HOLES WITH SUB-LITHOGRAPHIC DIAMETERS FORMED BY BLOCK COPOLYMER SELF-ASSEMBLY

机译：由嵌段共聚物自组装形成的亚岩性直径的二维孔

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摘要

Methods for fabricating sublithographic, nanoscale microstructures in two-dimensional square and rectangular arrays utilizing self-assembling block copolymers, and films and devices formed from these methods are provided.;COPYRIGHT KIPO & WIPO 2010

机译：提供了利用自组装嵌段共聚物制造二维正方形和矩形阵列的亚光刻纳米级结构的方法，以及由这些方法形成的薄膜和器件。COPYRIGHTKIPO＆WIPO 2010

著录项

公开/公告号KR20090105946A

专利类型
公开/公告日2009-10-07

原文格式PDF
申请/专利权人 MICRON TECHNOLOGY INC.;
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申请/专利号KR20097015567
发明设计人 MILLWARD DAN B.;
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申请日2008-01-10
分类号B81C1/00;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 19:12:27

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