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Alternative lithographic technologies VI
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1.
DEFECT REDUCTION AND DEFECT STABILITY IN IMEC'S 14NM HALF PITCH CHEMO-EPITAXY DSA FLOW
机译:
IMEC的14NM半螺距化学表位DSA流程中的缺陷减少和缺陷稳定性
作者:
Roel Gronheid
;
Paulina Rincon Delgadillo
;
Hari Pathangi
;
Dieter Van den Heuvel
;
Doni Parnell
;
Boon Teik Chan
;
Yu-Tsung Lee
;
Lieve van Look
;
Yi Cao
;
YoungJun Her
;
Guanyang Lin
;
Ryoto Harukawa
;
Venkat Nagaswami
;
Lucia DUrzo
;
Mark Somervell
;
Paul Nealey
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Directed Self-Assembly;
chemo-epitaxy;
LiNe flow;
defectivity;
lamellar phase block copolymer;
2.
Towards Electrical Testable SOI Devices Using Directed Self-Assembly for Fin Formation
机译:
使用定向自组装形成鳍片的可电测试SOI器件
作者:
Chi-Chun (Charlie) Liu
;
Cristina Estrada-Raygoza
;
Hong He
;
Michael Cicoria
;
Vinayak Rastogi
;
Nihar Mohanty
;
Hsinyu Tsai
;
Anthony Schepis
;
Kafai Lai
;
Robin Chao
;
Derrick Liu
;
Michael Guillorn
;
Jason Cantone
;
Sylvie Mignot
;
Ryoung-Han Kim
;
Joy Cheng
;
Melia Tjio
;
Akiteru Ko
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Directed self-assembly;
DSA;
block copolymer;
BCP;
process window;
SOI;
device;
short channel effect;
3.
Electric field scanning probe lithography on molecular glass resists using self-actuating, self-sensing cantilever
机译:
使用自驱动,自感应悬臂在分子玻璃抗蚀剂上进行电场扫描探针光刻
作者:
Marcus Kaestner
;
Konrad Nieradka
;
Tzvetan Ivanov
;
Steve Lenk
;
Yana Krivoshapkina
;
Ahmad Ahmad
;
Tihomir Angelov
;
Elshad Guliyev
;
Alexander Reum
;
Matthias Budden
;
Tomas Hrasok
;
Manuel Hofer
;
Christian Neuber
;
Ivo W. Rangelow
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Nanolithography;
Scanning Probe Lithography;
Molecular Glass Resist;
Calixarene Resist;
Self-actuating piezoresistive cantilever;
4.
High Volume Nanoscale Roll-based Imprinting Using Jet and Flash Imprint Lithography
机译:
使用喷射和闪光压印光刻技术的大批量基于纳米辊的压印
作者:
Se Hyun Ahn
;
Mike Miller
;
Shuqiang Yang
;
Maha Ganapathisubramanian
;
Marlon Menezes
;
Vik Singh
;
Fen Wan
;
Jin Choi
;
Frank Xu
;
Dwayne LaBrake
;
Douglas J. Resnick
;
Paul Hofemann
;
S. V. Sreenivasan
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
jet and flash imprint lithography;
J-FIL;
nanoimprint;
wire grid polarizer;
WGP;
displays;
LithoFlex;
5.
Challenges for pattern formation with sub-100nm residual-layer thickness by roll-to-roll nanoimprint lithography
机译:
卷对卷纳米压印光刻技术在100nm以下残留层厚度下形成图案的挑战
作者:
Ryoichi Inanami
;
Kazuto Matsuki
;
Tomoko Ojima
;
Takuya Kono
;
Tetsuro Nakasugi
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Roll-to-roll nanoimprint lithography;
residual layer thickness;
DOE;
nanomesh electrode;
6.
Increased throughput, determined by a suite of benchmark patterns, in a Gaussian Electron Beam lithography tool with a 100 MHz writing rate
机译:
在高斯电子束光刻工具中以100 MHz的写入速率通过一系列基准测试图案确定的提高的吞吐量
作者:
James H. Smith Ⅱ
;
Nigel Crosland
;
Samuel Doran
;
Robert C. Dowling Jr.
;
John G. Hartley
;
Philip C. Hoyle
;
David M.P. King
;
Lawrence Kutcher Jr.
;
Andrew McClelland
;
Martin Turnidge
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Electron-beam;
lithography;
vector-scan;
Gaussian;
throughput;
benchmark;
pattern;
Vistec;
7.
Simulation study of the effect of differences in block energy and density on the self-assembly of block copolymers
机译:
嵌段能量和密度差异对嵌段共聚物自组装影响的模拟研究
作者:
Richard A. Lawson
;
Andrew J. Peters
;
Benjamin Nation
;
Peter J. Ludovice
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
directed self-assembly;
block copolymer;
coarse grained;
molecular dynamics;
thin film morphologies;
cohesive energy density;
domain scaling;
order-disorder transition;
8.
Guided self-assembly of Si containing block copolymer with a Top-Coat surface treatment
机译:
含硅的嵌段共聚物的表面涂层引导下自组装
作者:
Takehiro Seshimo
;
Yoshiyuki Utsumi
;
Takahiro Dazai
;
Takaya Maehashi
;
Katsumi Ohmori
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Directed self-assembly;
DSA;
PS-b-PMMA;
BCP;
Si-containing;
Top-Coat;
Graphoepitaxy;
9.
Self-assembly of high-resolutions PS-b-PMMA block-copolymers: processes capabilities and integration on 300mm track
机译:
高分辨率PS-b-PMMA嵌段共聚物的自组装:工艺能力和在300mm轨道上的集成
作者:
X. Chevalier
;
C. Nicolet
;
R. Tiron
;
A. Gharbi
;
G. Chamiot-Maitral
;
K. Jullian
;
P. Pimenta-Barros
;
M. Argoud
;
J.-L. Peyre
;
R. Van Spaandonk
;
G. Fleury
;
G. Hadziioannou
;
C. Navarro
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
lithography;
block-copolymer;
self-assembly;
PS-b-PMMA;
contact hole shrink;
10.
High throughput Jet and Flash Imprint Lithography for advanced semiconductor memory
机译:
高通量喷射和闪存压印光刻技术,用于高级半导体存储器
作者:
Niyaz Khusnatdinov
;
Zhengmao Ye
;
Kang Luo
;
Tim Stachowiak
;
Xiaoming Lu
;
J. W. Irving
;
Matt Shafran
;
Whitney Longsine
;
Matthew Traub
;
Van Truskett
;
Brian Fletcher
;
Weijun Liu
;
Frank Xu
;
Dwayne LaBrake
;
S. V. Sreenivasan
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Jet and Flash Imprint Lithography;
J-FIL;
throughput;
defectivity;
imprint lithography;
11.
Demonstration of EDA flow for massively parallel e-beam lithography
机译:
大规模并行电子束光刻的EDA流程演示
作者:
P. Brandt
;
J. Belledent
;
C. Tranquillin
;
T. Figueiro
;
S. Meunier
;
S. Bayle
;
A. Fay
;
M. Millequant
;
B. Icard
;
M. Wieland
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
massively parallel mask-less electron beam lithography;
data preparation;
proximity effect correction;
process window;
data path;
stitching;
MAPPER Lithography;
MATRIX;
FLX 1200;
Aselta Nanographics;
Inscale®;
CEA-Leti;
12.
Massively parallel electron beam direct writing (MPEBDW) system based on micro-electro-mechanical system (MEMS)anocrystallineSi emitter array
机译:
基于微机电系统/纳米硅发射极阵列的大规模平行电子束直接写入(MPEBDW)系统
作者:
A. Kojima
;
N. Ikegami
;
T. Yoshida
;
H. Miyaguchi
;
M. Muroyama
;
H. Nishino
;
S. Yoshida
;
M. Sugata
;
H. Ohyi
;
N. Koshida
;
M. Esashi
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
nanocrystalline Si;
ballistic electron;
electron emitter;
massively parallel;
electron beam direct write system;
MEMS;
13.
Predicting Process Windows for Pattern Density Multiplication using Block Copolymer Directed Self-Assembly in Conjunction with Chemoepitaxial Guiding Layers
机译:
使用嵌段共聚物定向自组装与化学外延引导层相结合,预测图案密度乘积的过程窗口
作者:
Benjamin D. Nation
;
Andrew Peters
;
Richard A. Lawson
;
Peter J. Ludovice
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
directed self-assembly;
block copolymer;
computational;
chemoepitaxy;
process window;
alignment;
14.
New Lithography Technology for Sub-10nm Patterning with Shrinking Organic Material
机译:
用于收缩有机材料的亚10纳米图案化的新光刻技术
作者:
Seiji Morita
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Lithography;
Shrinkage;
Polymer template;
UV resin;
Organic material;
Replication;
15.
DFM for Defect-Free DSA Hole Shrink Process
机译:
DFM用于无缺陷的DSA孔收缩工艺
作者:
Ken Fukawatase
;
Kenji Yoshimoto
;
Masahiro Ohshima
;
Yoshihiro Naka
;
Shimon Maeda
;
Satoshi Tanaka
;
Seiji Morita
;
Hisako Aoyama
;
Shoji Mimotogi
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
DSA;
Block Copolymers;
Defects;
Contact Hole;
Shrink Process;
Simulations;
Model;
16.
Field-Theoretic Simulations of Directed Self-Assembly in Cylindrical Confinement: Placement and Rectification Aspects
机译:
圆柱约束中定向自组装的场论模拟:布置和整流方面
作者:
Nabil Laachi
;
Tatsuhiro Iwama
;
Kris T. Delaney
;
Bongkeun Kim
;
Robert Bristol
;
David Shykind
;
Corey J. Weinheimer
;
Glenn H. Fredrickson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Directed self-assembly;
Self-consistent field-theory;
Complex Langevin simulations;
Thermal fluctuations;
VIA lithography;
Rectification;
Registration;
Placement error;
Overlay error;
17.
Influence of litho patterning on DSA placement errors
机译:
光刻图案对DSA放置误差的影响
作者:
Sander Wuister
;
Tamara Druzhinina
;
Davide Ambesi
;
Bart Laenens
;
Linda He Yi
;
Jo Finders
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
lithography;
block-copolymer;
self-assembly;
PS-b-PMMA;
graphoepitaxy;
placement error;
simulations;
Dynamic Density Functional Theory;
18.
A single-nanometer nanoimprint-mask fabrication by EB Lithography followed by Nanoimprinting and Self-Aligned Double-Patterning
机译:
EB光刻技术制造单纳米纳米压印掩模,然后进行纳米压印和自对准双图案
作者:
Hideo Kobayashi
;
Kouta Suzuki
;
Hiromasa Iyama
;
Shuji Kishimoto
;
Takeshi Kagatsume
;
Takashi Sato
;
Tsuyoshi Watanabe
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
nanoimprint lithography;
mold;
mask;
EB lithography;
self-aligned double patterning;
19.
Fluorine coatings for nanoimprint lithography masks
机译:
用于纳米压印光刻掩模的氟涂料
作者:
Thomas E. Seidel
;
Alexander Goldberg
;
Mathew D. Halls
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
nanoimprint lithography;
nanoimprint masks;
ALD;
fluorine molecular mask coatings;
imprint mask defects;
DFT;
20.
Photoinhibited superresolution lithography: overcoming chemical blur
机译:
光抑制超分辨率光刻:克服化学模糊
作者:
Darren L. Forman
;
Robert R. McLeod
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Superresolution;
STED;
lithography;
photoinhibition;
21.
Analysis of mix-and-match litho approach for manufacturing 20nm logic node products
机译:
用于制造20nm逻辑节点产品的混合匹配光刻方法分析
作者:
Yayi Wei
;
Chao Zhao
;
Tianchun Ye
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
20nm logic node;
e-beam lithography;
maskless;
mix-and-match;
22.
DSA Template Optimization for Contact Layer in 1D Standard Cell Design
机译:
一维标准单元设计中接触层的DSA模板优化
作者:
Zigang Xiao
;
Yuelin Du
;
Haitong Tian
;
Martin D.F. Wong
;
He Yi
;
H.-S. Philip Wong
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
DSA;
Directed self-assembly;
Contact Layer Optimization;
23.
Self-Consistent Field Theory of Directed Self-Assembly on Chemically-Prepatterned Surfaces
机译:
化学图案表面上定向自组装的自洽场理论
作者:
Kenichi Izumi
;
Nabil Laachi
;
XingKun Man
;
Kris T. Delaney
;
Glenn H. Fredrickson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Directed self-assembly;
self consistent field theory;
chemo-epitaxy;
defect energy;
dislocations;
24.
Defect-aware process margin for chemo-epitaxial directed self-assembly lithography using simulation method based on self-consistent field theory
机译:
基于自洽场理论的化学外延定向自组装光刻的缺陷识别工艺裕度
作者:
Katsuyoshi Kodera
;
Hironobu Sato
;
Hideki Kanai
;
Yuriko Seino
;
Naoko Kihara
;
Yusuke Kasahara
;
Katsutoshi Kobayashi
;
Ken Miyagi
;
Shinya Minegishi
;
Koichi Yatsuda
;
Tomoharu Fujiwara
;
Noriyuki Hirayanagi
;
Yoshiaki Kawamonzen
;
Tsukasa Azuma
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
directed self-assembly;
lithography;
self-consistent field theory;
defect analysis;
defect-aware process margin;
25.
300mm pilot line DSA contact hole process stability
机译:
300mm先导线DSA接触孔工艺稳定性
作者:
M. Argoud
;
I. Servin
;
A. Gharbi
;
P. Pimenta Barros
;
K. Jullian
;
M. Sanche
;
G. Chamiot-Maitral
;
S. Barnola
;
R. Tiron
;
C. Navarro
;
X. Chevalier
;
C. Nicolet
;
G. Fleury
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G. Hadziioannou
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M. Asai
;
C. Pieczulewski
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
directed self-assembly;
graphoepitaxy;
block copolymers;
PS-b-PMMA;
contact hole patterning;
300mm process stability;
statistical process control;
26.
Control of PS-b-PMMA directed self-assembly registration by laser induced millisecond thermal annealing
机译:
激光诱导毫秒热退火控制PS-b-PMMA定向自组装配准
作者:
Alan G. Jacobs
;
Byungki Jung
;
Christopher K. Ober
;
Michael O. Thompson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Directed Self-Assembly;
DSA;
Laser Spike Annealing;
LSA;
PS-b-PMMA;
defectivity;
order-disorder transition;
ODT;
27.
Inspection of Directed Self-Assembly Defects
机译:
检查定向的自组装缺陷
作者:
Chikashi Ito
;
Stephane Durant
;
Steve Lange
;
Ryota Harukawa
;
Takemasa Miyagi
;
Venkat Nagaswami
;
Paulina Rincon Delgadillo
;
Roel Gronheid
;
Paul Nealey
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Directed self-assembly;
DSA defects;
Defect simulation;
Inspection signal simulation;
28.
Using chemo-epitaxial directed self-assembly for repair and frequency multiplication of EUVL contact hole patterns
机译:
使用化学外延定向自组装进行EUVL接触孔图案的修复和倍频
作者:
Arjun Singh
;
Boon Teik Chan
;
Yi Cao
;
Guanyang Lin
;
Roel Gronheid
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
contact hole rectification;
DSA;
frequency multiplication;
chemo-epitaxy;
EUV;
LCDU;
directed self-assembly;
cylindrical phase;
29.
DSA-Aware Detailed Routing for Via Layer Optimization
机译:
DSA感知的详细路由,用于通过层优化
作者:
Yuelin Du
;
Zigang Xiao
;
Martin D.F. Wong
;
He Yi
;
H.-S. Philip Wong
会议名称:
《》
|
2014年
关键词:
DSA;
Template;
Detailed Routing;
Via Layer Optimization;
30.
Multi-Scale DSA Simulations For Efficient Hotspot Analysis
机译:
用于高效热点分析的多尺度DSA仿真
作者:
Yoshihiro Hori
;
Kenji Yoshimoto
;
Takashi Taniguchi
;
Masahiro Ohshima
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
DSA;
block copolymers;
defects;
model;
simulation;
dynamics;
31.
Investigation of the resist outgassing and hydrocarbonaceous contamination induced in multi electron beams lithography tools
机译:
多电子束光刻工具引起的抗蚀剂脱气和烃类污染的研究
作者:
A-P. Mebiene-Engohang
;
M.L. Pourteau
;
J.C. Marusic
;
L. Pain
;
T. Nakayama
;
A. Miyake
;
M. Smits
;
S. David
;
S. Labau
;
J. Boussey
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
E-beam resist;
Outgassing;
Contamination;
Top coat;
TD-GC-MS;
QMS;
XPS;
FIB-SEM;
32.
Simulations of spatial DSA morphology, DSA-aware assist features and block copolymer-homopolymer blends
机译:
模拟空间DSA形态,DSA感知辅助功能和嵌段共聚物-均聚物共混物
作者:
Azat Latypov
;
Tamer H. Coskun
;
Grant Garner
;
Moshe Preil
;
Gerard Schmid
;
Ji Xu
;
Yi Zou
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
directed self-assembly;
DSA;
block copolymers;
BCP;
SCFT;
Monte Carlo;
33.
Closed-loop high-speed 3D thermal probe nanolithography
机译:
闭环高速3D热探针纳米光刻
作者:
A. W. Knoll
;
M. Zientek
;
L.L. Cheong
;
C. Rawlings
;
P. Paul
;
F. Holzner
;
J. L. Hedrick
;
D. J. Coady
;
R. Allen
;
U. Duerig
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Scanning Probe Lithography;
Nanofabrication;
Direct Write;
Closed loop lithography;
Stitching;
Pattern Transfer;
34.
A Frequency Multiplication Technique Based on EUV Near-Field Imaging
机译:
基于EUV近场成像的倍频技术
作者:
Yijian Chen
;
Yashesh Shroff
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
EUV;
near-field imaging;
frequency multiplication;
depth of thickness fluctuation (DOT);
35.
High resolution patterning for flexible electronics via roll-to-roll nanoimprint lithography
机译:
通过卷对卷纳米压印光刻技术对柔性电子设备进行高分辨率图案化
作者:
Sami Sabik
;
Joris de Riet
;
Iryna Yakimets
;
Edsger Smits
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
R2R;
roll-to-toll;
nanoimprint lithography;
flexible electronics;
light management;
transparent electrode;
multilevel imprint;
36.
Enabling Large Area and High Throughput Roll-to-Roll NIL by Novel Inkjetable and Photo-curable NIL-Resists
机译:
通过新型可喷墨和光固化NIL抗蚀剂实现大面积,高通量卷对卷NIL
作者:
Manuel W. Thesen
;
Maximilian Rumler
;
Florian Schlachter
;
Susanne Gruetzner
;
Christian Moormann
;
Mathias Rommel
;
Dieter Nees
;
Stephan Ruttloff
;
Stefan Pfirrmann
;
Marko Vogler
;
Arne Schleunitz
;
Gabi Gruetzner
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Nanoimprint lithography (NIL);
inkjet dispensing;
high throughput;
large area;
RIE;
polymer stamp;
roll-to-roll Photo-NIL;
Step Repeat;
37.
Size and Shape Control of Sub-20 nm Patterns Fabricated Using Focused Electron Beam Induced Processing
机译:
聚焦电子束诱导工艺制备的亚20 nm图案的尺寸和形状控制
作者:
S. Hari
;
C.W. Hagen
;
T. Verduin
;
P. Kruit
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Electron beam induced deposition;
EBID;
focused electron beam induced processing;
FEBIP;
nanofabrication;
line edge roughness;
LER;
patterning;
lithography;
e-beam lithography;
38.
Extending the scope of poly(styrene)-block-poly(methyl methacrylate) for directed self assembly
机译:
扩大了用于定向自组装的聚苯乙烯嵌段聚甲基丙烯酸甲酯的范围
作者:
Thomas Bennett
;
Kevin Pei
;
Han Hao Cheng
;
Kristofer J. Thurecht
;
Kevin S. Jack
;
Idriss Blakey
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
ionic liquids;
block copolymer;
PS-b-PMMA;
Chi parameter;
Flory Huggins polymer-polymer interaction parameter;
39.
Improvements of self-assembly properties via homopolymer addition or block-copolymer blends
机译:
通过添加均聚物或嵌段共聚物共混物改善自组装性能
作者:
X. Chevalier
;
C. Nicolet
;
R. Tiron
;
A. Gharbi
;
M. Argoud
;
C. Couderc
;
G. Fleury
;
G. Hadziioannou
;
I. Iliopoulos
;
C. Navarro
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
block copolymer;
PS-b-PMMA;
homopolymer;
block copolymer blends;
self-assembly;
40.
Hard Disk Drive Thin Film Head Manufactured Using Nanoimprint Lithography
机译:
使用纳米压印光刻技术制造的硬盘驱动器薄膜磁头
作者:
Daniel B. Sullivan
;
Thomas Boonstra
;
Mark T. Kief
;
Lily Youtt
;
Sethuraman Jayashankar
;
Carolyn Van Dorn
;
Harold Gentile
;
Sriram Viswanathan
;
Dexin Wang
;
Dion Song
;
Dongsung Hong
;
Sung-Hoon Gee
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
nanoimprint lithography;
hard disc drive;
thin film head;
AlTiC;
NIL;
template;
RLT;
Jet and Flash Imprint Lithography (J-FIL);
41.
The prospects of design for Roll to Roll lithography: Layout refinement utilizing process simulation
机译:
卷对卷光刻的设计前景:利用过程仿真进行版图优化
作者:
Sachiko Kobayashi
;
Mitsuko Shimizu
;
Satoshi Tanaka
;
Yohko Furutono
;
Masayuki Hatano
;
Kazuto Matsuki
;
Ryoichi Inanami
;
Shoji Mimotogi
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
roll-to-roll;
nanoimprint lithography;
film mold;
nickel mold;
printed electronics;
42.
The REEL DPG: Recent Innovations and Remaining Challenges
机译:
REEL DPG:最近的创新和仍然存在的挑战
作者:
Allen Carroll
;
Luca Grella
;
Kirk Murray
;
Mark A. McCord
;
Paul Petric
;
William M. Tong
;
Christopher F. Bevis
;
Shy-Jay Lin
;
Tsung-Hsin Yu
;
Tze-Chiang Huang
;
T. P. Wang
;
Wen-Chuan Wang
;
J. J. Shin
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
electron beam;
direct write;
lithography;
maskless;
REBL;
digital pattern generator;
43.
Tuning the strength of chemical patterns for directed self-assembly of block copolymers
机译:
调整化学图案的强度,以实现嵌段共聚物的定向自组装
作者:
Lance Williamson
;
Guanyang Lin
;
Yi Cao
;
Roel Gronheid
;
Paul Nealey
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
block copolymer;
directed self-assembly;
chemical pattern;
44.
Directed Self-Assembly of Diblock Copolymers in Laterally Confining Channels: Line-Edge-Roughness and Defectivity
机译:
嵌段共聚物在侧向封闭通道中的定向自组装:线边缘粗糙度和缺陷率
作者:
Bongkeun Kim
;
Nabil Laachi
;
Kris T. Delaney
;
Glenn H. Fredrickson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Self-Consistent Field Theory (SCFT);
Graphoepitaxy;
Directed Self-Assembly;
Defects;
Line-Edge-Roughness (LER);
Complex Langevin (CL);
Order Parameter;
Disclinations;
Rough Surfaces;
Corrugations;
45.
Nanoimprint lithography process chains for the fabrication of micro- and nanodevices
机译:
用于制造微型和纳米器件的纳米压印光刻工艺链
作者:
Helmut Schift
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Nanoimprint lithography;
injection molding;
microcantilever;
micromechanical elements;
polymer;
46.
A Full-chip DSA Correction Framework
机译:
全芯片DSA校正框架
作者:
Wei-Long Wang
;
Azat Latypov
;
Yi Zou
;
Tamer H. Coskun
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
DSA;
Proximity Correction;
OPC;
Optimization;
Simplex;
Nelder-Mead;
Matrix-Solve;
Grouping;
diblock copolymer;
47.
Evaluation of integration schemes for contact-hole grapho-epitaxy DSA: A study of substrate and template affinity control
机译:
接触孔石墨表观DSA集成方案的评估:底物和模板亲和力控制的研究
作者:
A. Romo-Negreira
;
T. R. Younkin
;
R. Gronheid
;
S. Demuynck
;
N. Vandenbroeck
;
T. Seo
;
D.J. Guerrero
;
D. Parnell
;
M. Muramatsu
;
K. Shinichiro
;
Y. Takashi
;
K. Nafus
;
M. H. Somervell
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
DSA;
grapho-epitaxy;
BCP shrink;
phase-separation;
template affinity control;
electrical characterization;
48.
Contact holes patterning by Directed Self-Assembly of block copolymers: what would be the Bossung plot?
机译:
通过嵌段共聚物的定向自组装对接触孔进行构图:Bossung图是什么?
作者:
A. Gharbi
;
R. Tiron
;
M. Argoud
;
X. Chevalier
;
J. Belledent
;
J. Pradelles
;
P. Pimenta Barros
;
C. Navarro
;
C. Nicolet
;
G. Hadziioannou
;
G. Fleury
;
S. Barnola
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
block copolymer;
self-assembly;
contact shrink;
contact multiplication;
commensurability;
49.
Novel Fluorinated Compounds that Improve Durability of Antistick Layer for Quartz Mold
机译:
新型氟化化合物,可提高石英模具防粘层的耐久性
作者:
Tsuneo Yamashita
;
Hisashi Mitsuhashi
;
Masamichi Morita
;
Shuso Iyoshi
;
Makoto Okada
;
Shinji Matsui
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Nanoimprint;
Resist;
Fluoropolymers;
Nanoimprint Lithography;
UV-NIL;
Fluorine lyophobic resist;
Antisticking material;
Releasing material;
Perfluoroporyether;
50.
Molecular glass resists for scanning probe lithography
机译:
分子玻璃抗蚀剂,用于扫描探针光刻
作者:
Christian Neuber
;
Andreas Ringk
;
Tristan Kolb
;
Florian Wieberger
;
Peter Strohriegl
;
Hans-Werner Schmidt
;
Vincent Fokkema
;
Mike Cooke
;
Colin Rawlings
;
Urs Duerig
;
Armin Knoll
;
Jean- Francois de Marneffe
;
Peter De Schepper
;
Marcus Kaestner
;
Yana Krivoshapkina
;
Matthias Bu
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
molecular glass resist;
scanning probe lithography;
physical vapor deposition;
etch transfer;
51.
REEL DPG Lenslet Structure: Design for Charging Prevention
机译:
REEL DPG小透镜结构:防止充电的设计
作者:
Shy-Jay Lin
;
T. I. Bao
;
C. W. Lu
;
S.-C. Wang
;
T.-C. Chien
;
J.-J. Shin
;
Burn J. Lin
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Electron beam lithography;
REBL;
charging;
52.
A shape-modification strategy of electron beam direct writing considering circuit performance in LSI interconnects
机译:
考虑LSI互连中电路性能的电子束直接写入的形状修改策略
作者:
Yoshihiro Midoh
;
Atsushi Osaki
;
Koji Nakamae
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
electron beam direct writing;
circuit performance;
reliability;
proximity effect correction;
drawing throughput;
53.
Simulation Analysis of Directed Self-Assembly for Hole Multiplication in Guide Pattern
机译:
引导图案中孔的定向自组装的仿真分析
作者:
M. Muramatsu
;
T. Nakano
;
T. Tomita
;
K. Yamamoto
;
K. Matsuzaki
;
T. Kitano
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
directed self-assembly;
multiplication;
PS-b-PMMA;
density functional theory;
dissipative particle dynamics;
54.
Towards the fast DSA: improvement of computational performance of the DSA model
机译:
迈向快速DSA:改进DSA模型的计算性能
作者:
Azat Latypov
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
directed self-assembly;
DSA;
block copolymers;
BCP;
SCFT;
compact model;
55.
Self-assembly of Si-containing block copolymers with high-segregation strength: toward sub-10nm features in directed self-assembly
机译:
具有高离析强度的含硅嵌段共聚物的自组装:在定向自组装中朝低于10nm的方向发展
作者:
C. Reboul
;
G. Fleury
;
K. Aissou
;
C. Brochon
;
E. Cloutet
;
C. Nicolet
;
X. Chevalier
;
C. Navarro
;
R. Tiron
;
G. Cunge
;
G. Hadziioannou
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Si-containing block-copolymer;
high segregation strength;
56.
Computational studies of shape rectification in directed self-assembly
机译:
定向自组装中形状矫正的计算研究
作者:
Tatsuhiro Iwama
;
Nabil Laachi
;
Kris T. Delaney
;
Bongkeun Kim
;
Glenn H. Fredrickson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Directed self-assembly;
shape rectification;
self-consistent field theory;
VIA lithography;
contact holes;
hole shrink;
overlapped cylinders;
57.
Streamlined etch integration with a unique neutral layer for self-assembled block copolymers (BCPs)
机译:
简化的蚀刻集成以及用于自组装嵌段共聚物(BCP)的独特中性层
作者:
Mary Ann Hockey
;
Kui Xu
;
Yubao Wang
;
Douglas J. Guerrero
;
Eric Calderas
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Directed Self-Assembly (DSA);
Block Copolymers (BCPs);
Hardmask Neutral Layer (HM NL);
58.
Improvement in Electron-beam Lithography Throughput by Exploiting Relaxed Patterning Fidelity Requirements with Directed Self-Assembly
机译:
通过利用定向自组装开发轻松的图案保真度要求来提高电子束光刻能力
作者:
Hao-Yun Yu
;
Chun-Hung Liu
;
Yu-Tian Shen
;
Hsuan-Ping Lee
;
Kuen-Yu Tsai
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Electron-beam lithography;
directed self-assembly;
line edge roughness;
throughput;
patterning fidelity;
59.
Understanding defects in DSA: Calculation of free energies of block copolymer DSA systems via thermodynamic integration of a mesoscale block-copolymer model
机译:
了解DSA中的缺陷:通过中尺度嵌段共聚物模型的热力学积分计算嵌段共聚物DSA系统的自由能
作者:
Andrew J. Peters
;
Richard A. Lawson
;
Benjamin D. Nation
;
Peter J. Ludovice
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Directed Self-Assembly;
Molecular Dynamics;
GPU;
Coarse-Grained;
Simulation;
Defects;
Free Energy;
Thermodynamic Integration;
60.
Scanner effects on directed self-assembly patterning
机译:
扫描仪对定向自组装图案的影响
作者:
Stephen P. Renwick
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
DSA;
immersion;
CD uniformity;
overlay;
focus uniformity;
ArF;
scanner;
guide;
61.
Effect of Guiding Layer Topography on Chemoepitaxially Directed Self-Assembly of Block Copolymers for Pattern Density Multiplication
机译:
导向层形貌对嵌段共聚物化学外延定向自组装形成图案密度的影响
作者:
Benjamin D. Nation
;
Andrew Peters
;
Richard A. Lawson
;
Peter J. Ludovice
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
directed self-assembly;
block copolymer;
computational;
simulation;
chemoepitaxy;
topography;
62.
Development of fast DSA simulation method using OCTA system
机译:
使用OCTA系统开发快速DSA仿真方法
作者:
Hiroshi Morita
会议名称:
《Alternative lithographic technologies VI》
|
2014年
关键词:
Meso scale simulation;
Dynamics of polymer chain;
Conformation of polymer chain;
OCTA system;
Density Biased Monte Carlo Method;
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