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TWO-DIMENSIONAL ARRAYS OF HOLES WITH SUB-LITHOGRAPHIC DIAMETERS FORMED BY BLOCK COPOLYMER SELF-ASSEMBLY

机译：由嵌段共聚物自组装形成的亚岩性直径的二维孔

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摘要

sub- lithography of nanoscale microstructures in a two-dimensional square and rectangular arrays using block copolymer self-assembly method for producing a , provide film and a device formed by this method will be .

机译：使用嵌段共聚物自组装方法在二维正方形和矩形阵列中对纳米级微结构进行亚光刻，以提供薄膜和通过该方法形成的装置。

著录项

公开/公告号KR101097557B1

专利类型
公开/公告日2011-12-22

原文格式PDF
申请/专利权人
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申请/专利号KR20097015567
发明设计人 밀워드 단 비.;
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申请日2008-01-10
分类号B81C1/00;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 17:10:56

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