机译:用于在光敏层上形成掩模的微光刻投影照明系统的投影透镜具有沿光轴在不同位置布置的两个补偿单元,其中在两个单元之间设置了折射透镜
公开/公告号DE102008001761A1
专利类型
公开/公告日2008-12-11
原文格式PDF
申请/专利权人 CARL ZEISS SMT AG;
申请/专利号DE20081001761
发明设计人 DODOC AURELIAN;
申请日2008-05-14
分类号G02B17/08;G02B13/14;G03F7/20;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 19:09:20