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RESIST PATTERN SURFACE TREATING AGENT, SURFACE TREATMENT METHOD FOR RESIST PATTERN USING THE SURFACE TREATING AGENT, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

机译:抗蚀剂图案表面处理剂,使用该表面处理剂的抗蚀剂图案的表面处理方法以及抗蚀剂图案的形成方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface treating agent for a freezing process, satisfying such requirements that in a freezing process applied to a first resist pattern in a double patterning method, the line width and LWR (line width roughness) of the first resist pattern do not change by the freezing process and by the formation of a second resist pattern, and to provide a surface treatment method using the agent and a method for forming a resist pattern.;SOLUTION: The surface treating agent for a resist pattern contains two or more kinds of polymers and/or oligomers in different weight average molecular weights from each other, the polymers and/or oligmers having a structure expressed by general formula (1). In the formula, X represents a single bond or a divalent linking group; and * represents a linking moiety with a polymer and/oligomer residue.;COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种用于冷冻工艺的表面处理剂,其满足以下要求:在以双重图案化方法应用于第一抗蚀剂图案的冷冻工艺中,第一抗蚀剂的线宽和LWR(线宽粗糙度)图案不会因冷冻过程和第二抗蚀剂图案的形成而改变,并且提供使用该试剂的表面处理方法和抗蚀剂图案的形成方法。解决方案:抗蚀剂图案的表面处理剂包含两种彼此具有不同的重均分子量的一种或多种聚合物和/或低聚物,所述聚合物和/或低聚物具有由通式(1)表示的结构。式中,X表示单键或二价连接基团。 *表示带有聚合物和/或低聚物残基的连接部分。;版权:(C)2010,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2010102040A

    专利类型

  • 公开/公告日2010-05-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FUJIFILM CORP;

    申请/专利号JP20080272333

  • 发明设计人 KAMIMURA SATOSHI;TARUYA SHINJI;

    申请日2008-10-22

  • 分类号G03F7/40;H01L21/027;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 19:00:14

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