要解决的问题:提供一种可以精确地判断蚀刻终点的凹入基板的制造方法,以提供一种凹入基板,微透镜基板,透射屏和背面投影仪。通过使用这种方法。解决方案:本发明涉及用于通过在基板5上形成多个凹部的凹入基板制造方法,该掩模6具有以规则布置方式形成于其中的多个开口63的掩模6。待蚀刻的基板的表面具有覆盖有具有多个开口的掩模的第一区域66和覆盖有具有多个第二开口64的掩模的第二区域67,所述多个第二开口64的间距小于第一开口之间的间距。 。另外,在第一区域和第二区域之间设置有未形成掩模的非掩模区域65。
版权:(C)2005,JPO&NCIPI
公开/公告号JP4449502B2
专利类型
公开/公告日2010-04-14
原文格式PDF
申请/专利权人 セイコーエプソン株式会社;
申请/专利号JP20040071377
申请日2004-03-12
分类号G02B3/00;G03B21/10;G03B21/62;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 18:58:40