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OBLIQUE MIRROR-TYPE NORMAL-INCIDENCE COLLECTOR SYSTEM FOR LIGHT SOURCES, PARTICULARLY EUV PLASMA DISCHARGE SOURCES

机译:光源(特别是EUV等离子体放电源)的倾斜镜型正入射收集器系统

摘要

There is provided a collector system. The collector system includes a first collector mirror and a second collector mirror. The first collector mirror receives EUV light from a light source at a first aperture angle via a first beam path, and reflects the EUV light at a second aperture angle along a second beam path. The first aperture angle is larger than or substantially equal to the second aperture angle. The second mirror receives the EUV light from the first mirror at the second aperture angle. The collector is an oblique mirror type normal incidence mirror collector system.
机译:提供了一种收集器系统。收集器系统包括第一收集器镜和第二收集器镜。第一收集器镜经由第一光束路径以第一孔径角接收来自光源的EUV光,并且沿着第二光束路径以第二孔径角反射EUV光。第一孔径角大于或基本等于第二孔径角。第二反射镜以第二孔径角从第一反射镜接收EUV光。该收集器是倾斜反射镜类型的垂直入射反射镜收集器系统。

著录项

  • 公开/公告号US2010259742A1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-10-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WOLFGANG SINGER;

    申请/专利号US20100823403

  • 发明设计人 WOLFGANG SINGER;

    申请日2010-06-25

  • 分类号G03B27/54;G03B27/32;G02B5/08;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:56:46

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