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??type ZnO semiconductor by ?? and column ? impurity codoping

机译:??型ZnO半导体和列?杂质共掺杂

摘要

A p type ZnO semiconductor doping Li and 7 group impurity is provided to facilitate formation of compound by increasing the bonding energy for forming Li-7 group-Li impurity compound with the coulomb interaction between two impurities. The Li and VII group doped with the impurity of Li and VII group is implanted into a ZnO which is II-IV group semiconductor. The density of the impurity of Li is higher than the density of the 7 group impurity. A ratio of the impurity of Li and 7 group is 2:1. The 7 group impurity has the element of F.
机译:提供p型ZnO半导体掺杂Li和7族杂质,以通过增加用于形成具有两个杂质之间的库仑相互作用的Li-7族-Li杂质化合物的结合能来促进化合物的形成。将掺杂有Li和VII基团的杂质的Li和VII基团注入到作为II-IV族半导体的ZnO中。 Li的杂质的密度高于7族杂质的密度。 Li与7族的杂质之比为2∶1。 7族杂质具有F元素。

著录项

  • 公开/公告号KR100958137B1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-05-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20080014599

  • 发明设计人 박철홍;강일준;

    申请日2008-02-18

  • 分类号H01L31/0328;H01L31/0296;H01L21/265;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 18:31:15

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