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MASK BLANK, METHOD FOR PRODUCING PHOTO MASK, AND PHOTO MASK

机译:蒙版空白,制作照片蒙版的方法以及照片蒙版

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask blank which can definitely prevent an alkali metal from spreading to a surface of a glass substrate, a method for producing a photo mask, and a photo mask.;SOLUTION: A mask blank 10 comprises a glass substrate 1 containing an alkali metal, a diffusion prevention layer 2 formed on a surface of the glass substrate, a light-shielding layer 3 formed on the diffusion prevention layer 2, and an antireflection layer 4 formed on the light-shielding layer 3. The surface of the glass substrate is polished and its surface roughness Ra is no larger than 2 nm. Even if the surface roughness Ra is no larger than 2 nm, diffusion of alkali metal from the glass substrate 1 to other layers can be reduced and occurrence of mouse nip default can be reduced by providing the diffusion prevention layer 2.;COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种可以确实防止碱金属扩散到玻璃基板的表面的掩模坯料,一种制造光掩模的方法以及一种光掩模。解决方案:掩模坯料10包括玻璃包含碱金属的基板1,在玻璃基板的表面上形成的防扩散层2,在防扩散层2上形成的遮光层3以及在遮光层3上形成的防反射层4。玻璃基板的表面被抛光并且其表面粗糙度Ra不大于2nm。即使表面粗糙度Ra不大于2nm,通过设置防扩散层2,也可以减少碱金属从玻璃基板1向其他层的扩散,并且可以减少鼠标咬合默认的发生。 )2012,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2011221377A

    专利类型

  • 公开/公告日2011-11-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ULVAC SEIMAKU KK;

    申请/专利号JP20100091987

  • 申请日2010-04-13

  • 分类号G03F1/14;C03C17/36;C03C15/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 18:25:18

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