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In the photo mask for the versatile taking and the photo mask for the versatile taking which

机译:在用于多功能拍摄的光罩和用于多功能拍摄的光罩中

摘要

PPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multiple-production photomask equalizing opening sizes of patterns of a multiple-production substrate, a method for manufacturing an electrooptical device, and electronic equipment with the electrooptical device manufactured by the manufacturing method mounted thereon. PSOLUTION: The multiple-production photomask 1 has a plurality of mask regions 2, each mask region 2 has a plurality of opening parts 3. When the multiple-production mask 1 is a positive type, the size of opening part 3 in each mask region 2 is made larger in steps from the center part to the outer periphery. PCOPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
机译:

要解决的问题:为了提供一种使多次生产基板的图案的开口尺寸相等的多次生产光掩模,制造电光装置的方法以及具有通过其安装有该制造方法的电光装置的电子设备。

解决方案:多次生产光掩模1具有多个掩模区域2,每个掩模区域2具有多个开口部分3。当多次生产掩模1为正型时,开口部分3的尺寸为每个掩模区域2从中心部分到外围逐步增大。

版权:(C)2005,JPO&NCIPI

著录项

  • 公开/公告号JP4617650B2

    专利类型

  • 公开/公告日2011-01-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 セイコーエプソン株式会社;

    申请/专利号JP20030335534

  • 发明设计人 山片 智孝;

    申请日2003-09-26

  • 分类号G03F1/08;G02F1/1335;G03F7/20;G09F9/00;H05B33/10;H01L51/50;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 18:18:33

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