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Metal Oxide Resistance Based Semiconductor Memory Device With High Work Function Electrode

机译:具有高功函数电极的基于金属氧化物电阻的半导体存储器件

摘要

Various aspect are directed to a memory device or memory cell with a metal-oxide memory element arranged in electrical series along a current path between at least a first electrode, a metal-oxide memory element adjacent to the first electrode, and a second electrode. The first electrode comprises an electrode material having a first work function. The metal-oxide memory element comprises a metal-oxide material having a second work function. The first work function is greater than the second work function. Thermionic emission characterizes the current through this memory.
机译:各个方面针对具有沿着至少第一电极,与第一电极相邻的金属氧化物存储元件和第二电极之间的电流路径以电串联方式布置的金属氧化物存储元件的存储器件或存储单元。第一电极包括具有第一功函数的电极材料。该金属氧化物存储元件包括具有第二功函数的金属氧化物材料。第一功函数大于第二功函数。热电子发射表征通过该存储器的电流。

著录项

  • 公开/公告号US2011175050A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-07-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WEI-CHIH CHIEN;YI-CHOU CHEN;

    申请/专利号US20100878861

  • 发明设计人 WEI-CHIH CHIEN;YI-CHOU CHEN;

    申请日2010-09-09

  • 分类号H01L45/00;H01L21/16;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:15:18

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