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Trench IGBT with trench gates underneath contact areas of protection diodes

机译:在保护二极管的接触区域下方具有沟槽栅极的沟槽IGBT

摘要

A trench PT IGBT (or NPT IGBT) having clamp diodes for ESD protection and prevention of shortage among gate, emitter and collector. The clamp diodes comprise multiple back-to-back Zener Diode composed of doped regions in a polysilicon layer doped with dopant ions of a first conductivity type next to a second conductivity type disposed on an insulation layer above said semiconductor power device. Trench gates are formed underneath the contact areas of the clamp diodes as the buffer layer for prevention of shortage.
机译:一种具有钳位二极管的沟槽PT IGBT(或NPT IGBT),用于ESD保护并防止栅极,发射极和集电极之间的短路。钳位二极管包括多个背对背齐纳二极管,该齐纳二极管由多晶硅层中的掺杂区组成,该掺杂区掺杂有设置在所述半导体功率器件上方的绝缘层上的第二导电类型之后的第二导电类型的第一导电类型的掺杂剂离子。在钳位二极管的接触区域下方形成沟槽栅极作为缓冲层,以防止短路。

著录项

  • 公开/公告号US7897997B2

    专利类型

  • 公开/公告日2011-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FU-YUAN HSIEH;

    申请/专利号US20090385639

  • 发明设计人 FU-YUAN HSIEH;

    申请日2009-04-15

  • 分类号H01L29/739;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:08:21

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