首页> 外国专利> Multi-bit memory device having resistive material layers as storage node and methods of manufacturing and operating the same

Multi-bit memory device having resistive material layers as storage node and methods of manufacturing and operating the same

机译:具有电阻材料层作为存储节点的多位存储器件及其制造和操作方法

摘要

Provided are a multi-bit memory device having resistive material layers as a storage node, and methods of manufacturing and operating the same. The memory device includes a substrate, a transistor formed on the substrate, and a storage node coupled to the transistor, wherein the storage node includes: a lower electrode connected to the substrate; a first phase change layer formed on the lower electrode; a first barrier layer overlying the first phase change layer; a second phase change layer overlying the first barrier layer; and an upper electrode formed on the second phase change layer.
机译:提供了一种具有电阻材料层作为存储节点的多位存储器件及其制造和操作方法。该存储装置包括:基板;形成在基板上的晶体管;以及耦接至该晶体管的存储节点,其中,存储节点包括:连接至基板的下部电极;以及连接至基板的下部电极。在下电极上形成的第一相变层;覆盖第一相变层的第一阻挡层;覆盖第一阻挡层的第二相变层;形成在第二相变层上的上电极。

著录项

  • 公开/公告号US7939816B2

    专利类型

  • 公开/公告日2011-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JUNG-HYUN LEE;

    申请/专利号US20100662102

  • 发明设计人 JUNG-HYUN LEE;

    申请日2010-03-31

  • 分类号H01L45;G11C11/56;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:08:01

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号