首页> 外国专利> NOR FLASH MEMORY ARRAY WITH VERTICAL CHANNEL BUILTIN FIN-SPLIT LAYER

NOR FLASH MEMORY ARRAY WITH VERTICAL CHANNEL BUILTIN FIN-SPLIT LAYER

机译:NOR快闪记忆体阵列搭配垂直通道BUILTIN鳍片层

摘要

PURPOSE: A NOR flash memory array of a vertical channel embedding a fin separation layer is provided to prevent a leakage current between bit lines by arranging the pin separation layer between the silicon fins. CONSTITUTION: A NOR flash memory array includes a silicon substrate(10), a charge storage(60), and a gate line(70). The silicon substrate has the silicon fins(12a,12b). The charge storage is arranged on the silicon fins. The gate lines are positioned on the charge storage and cross the silicon fins. The NOR flash memory array includes a fin separation layer(11). The fin separation layer is arranged between the silicon fins.
机译:目的:提供一个垂直通道的NOR闪存阵列,其中嵌入了鳍分离层,以通过在硅鳍之间布置引脚分离层来防止位线之间的泄漏电流。组成:NOR闪存阵列包括硅衬底(10),电荷存储(60)和栅极线(70)。硅基板具有硅鳍片(12a,12b)。电荷存储器布置在硅鳍上。栅极线位于电荷存储上并与硅鳍交叉。 NOR闪存阵列包括鳍分离层(11)。鳍分离层布置在硅鳍之间。

著录项

  • 公开/公告号KR101002246B1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-12-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20080063980

  • 发明设计人 박병국;윤장근;

    申请日2008-07-02

  • 分类号H01L27/115;H01L29/78;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:52:53

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号