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SOLDER JOINTS FOR COPPER METALLIZATION HAVING REDUCED INTERFACIAL VOIDS

机译:具有减少的界面空隙的铜金属化焊点

摘要

A metal interconnect structure ( 100 ) comprising a bond pad ( 101 ), which has copper with at least 70 volume percent composed of crystal grains expanding more than 1 mum in their main direction, and 30 or less volume percent composed of crystal grains, which expand less than 1 mum in their main crystal direction. A body ( 102 ) of tin alloy is in contact with the bond pad.
机译:一种金属互连结构(100),其包括接合焊盘(101),该接合焊盘具有至少70体积%的铜,该铜由在其主方向上膨胀大于1μm的晶粒构成,并且具有30体积%或更少的由晶粒构成的铜。沿主晶体方向扩展不到1毫米。锡合金的主体(102)与接合垫接触。

著录项

  • 公开/公告号KR101002867B1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20077030682

  • 申请日2006-05-31

  • 分类号B32B15/08;H01L23/532;B32B15/20;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:52:52

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