首页> 中国专利> 具有减少的界面空洞的用于铜金属化的焊接点

具有减少的界面空洞的用于铜金属化的焊接点

摘要

一种金属互连结构(100)包括接合衬垫(101),所述接合衬垫具有铜,所述铜的至少70体积百分比由在晶粒主方向上扩展1μm以上的晶粒组成,且30或少于30体积百分比由在晶粒主结晶方向上扩展1μm以下的晶粒组成。锡合金主体(102)与所述接合衬垫接触。

著录项

  • 公开/公告号CN101213076B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德州仪器公司;

    申请/专利号CN200680024468.8

  • 申请日2006-05-31

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人刘国伟

  • 地址 美国得克萨斯州

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-08-24

    授权

    授权

  • 2008-08-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-07-02

    公开

    公开

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