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METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, CAPABLE OF PREVENTING CD INCREASE DUE TO INFLUENCE OF PATTERN DENSITY

机译:形成掩模图案的方法,由于图案密度的影响,可以防止CD增加

摘要

PURPOSE: A method for forming a mask pattern is provided to prevent a bridge by inserting a scattering bar reducing pattern density. ;CONSTITUTION: A pattern is designed. The pattern has first light shielding pads and second light shielding pads(422,424). The second light shielding pads are formed in a space among the first light shielding pads. At least one scattering bar(420) is inserted into the inside of the first light shielding pads. Pattern density is reduced.;COPYRIGHT KIPO 2011
机译:目的:提供一种形成掩模图案的方法,以通过插入散射棒来降低桥的密度,从而降低桥的密度。 ;构成:设计了一种图案。该图案具有第一遮光垫和第二遮光垫(422,424)。第二遮光垫形成在第一遮光垫之间的空间中。至少一个散射棒(420)被插入第一遮光垫的内部。图案密度降低。; COPYRIGHT KIPO 2011

著录项

  • 公开/公告号KR20110076229A

    专利类型

  • 公开/公告日2011-07-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DONGBU HITEK CO. LTD.;

    申请/专利号KR20090132880

  • 发明设计人 CHOI JAE YOUNG;

    申请日2009-12-29

  • 分类号H01L21/027;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:51:31

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