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OPTICAL SYSTEM FOR REMOVING BUBBLES IN A PHOTORESIST CAPABLE OF COLLECTING AND REMOVING BUBBLES AT A TIME

机译:一次可收集和清除气泡的光致抗蚀剂中的气泡清除光学系统

摘要

PURPOSE: An optical system for removing bubbles in a photoresist is provided to collect bubbles without damaging the photoresist by applying a noncontact method using a laser beam. ;CONSTITUTION: A laser generator(101) emits a laser beam. A beam splitter(103) splits the laser beam from the laser generator into two laser beams. A mirror(107) reflects two laser beams. An optical system(109) focuses two reflected laser beams and irradiates the focused laser beam to an object. The object is comprised of a wafer(111) and a photoresist(113) coated on the wafer.;COPYRIGHT KIPO 2011
机译:目的:提供一种用于去除光致抗蚀剂中的气泡的光学系统,以通过使用激光束应用非接触方法来收集气泡而不会损坏光致抗蚀剂。 ;组成:激光发生器(101)发出激光束。分束器(103)将来自激光发生器的激光束分成两个激光束。镜(107)反射两个激光束。光学系统(109)聚焦两个反射的激光束,并将聚焦的激光束照射到物体上。该物体由晶片(111)和涂覆在晶片上的光刻胶(113)组成。; COPYRIGHT KIPO 2011

著录项

  • 公开/公告号KR20110077906A

    专利类型

  • 公开/公告日2011-07-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DONGBU HITEK CO. LTD.;

    申请/专利号KR20090134585

  • 发明设计人 JOO IN JE;PARK KYUNG WOONG;

    申请日2009-12-30

  • 分类号H01L21/027;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:51:30

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