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volatile metal organic complex with a low reactivity to the verwndung in cvd deposition of metalloxidfilmen suitable

机译:在金属氧化物薄膜的cvd沉积中对硅藻土反应性低的挥发性金属有机配合物

摘要

Novel ligated compounds of tin, titanium, and zinc are useful as metal oxide CVD precursor compounds without the detriments of extreme reactivity yet maintaining the ability to produce high quality metal oxide coating by contact with heated substrates.
机译:锡,钛和锌的新型连接化合物可用作金属氧化物CVD前体化合物,而不会损害极高的反应活性,但仍具有通过与加热的基材接触而生产高质量金属氧化物涂层的能力。

著录项

  • 公开/公告号DE60143816D1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-02-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FIRST SOLAR INC.;

    申请/专利号DE20016043816T

  • 发明设计人 GIOLANDO DEAN M.;

    申请日2001-11-30

  • 分类号C23C16/40;C03C17/245;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 17:46:43

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