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机译:CD_(1-X)Zn_XO薄膜中CD的区的结构和形态学表征通过大气压金属有机化学气相沉积
机译:g锑浓度对通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术生长的(Bi_(1-x)Sb_x)_2Te_3薄膜的电和热电性能的影响
机译:低成本大气压金属有机化学气相沉积技术沉积CD_XZN _((1-X))S薄膜的表面形态学性能(AP-MOCVD)
机译:通过大气压金属有机化学气相沉积(AP-MOCVD)开发用于氧化锌薄膜生长的新型单源前驱体,用于微电子器件。
机译:金属有机化学气相沉积(MOCVD)异质外延Pr0.7Ca0.3MnO3薄膜的合成:工艺条件对结构/形态和功能特性的影响
机译:金属有机化学气相沉积法沉积的氧化铝薄膜对不锈钢的高温腐蚀的防护性能
机译:用新型mOCVD(金属有机化学气相沉积)技术制备用于光电转换的薄膜:年度分包报告,1985年2月15日至1985年4月15日