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Production manner of high purity SiO2 from shirikato solution

机译：用Shirikato溶液生产高纯度SiO2的方法

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摘要

This invention new production manner of high purity₂ SiO from the shirikato solution, regards new high purity SiO and the use which possess₂ special contaminant profile.

机译：本发明从Shirikato溶液中生产高纯度_{2 SiO的新方法，是关于新型高纯度SiO及其具有_{2 特殊污染物特征的用途。}}

著录项

公开/公告号JP2012504102A

专利类型
公开/公告日2012-02-16

原文格式PDF
申请/专利权人エボニックデグサゲーエムベーハー;エボニックデグサゲーエムベーハー;
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申请/专利号JP20110529518
发明设计人クリスティアンパンツ;フローリアンパウラート;イェンスペルツァー;スヴェンミュラー;ユルゲンベーニッシュ;マルクスルーフ;ギドティツ;ハルトヴィッヒラウレーダー;
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申请日2009-09-28
分类号C01B33/187;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 17:38:53

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