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Method for measuring minority carrier diffusion length and method for manufacturing silicon wafer

机译:测量少数载流子扩散长度的方法和制造硅晶片的方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a means of measuring a minority carrier length in a silicon wafer in a short time with high reliability.;SOLUTION: Disclosed is a method for measuring the minority carrier diffusion length in the silicon wafer by a surface photovoltage method. The measurement is carried out after the silicon wafer is surface-treated and the silicon wafer surface having been treated is irradiated with ultraviolet rays in an oxygen containing atmosphere.;COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种在短时间内以高可靠性测量硅晶片中少数载流子长度的方法。解决方案:公开了一种通过表面光电压法测量硅晶片中少数载流子扩散长度的方法。 。在对硅晶片进行表面处理并在含氧气氛中用紫外线照射已处理的硅晶片表面之后进行测量。版权所有:(C)2008,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP4940737B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-05-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社SUMCO;

    申请/专利号JP20060108406

  • 发明设计人 久保田 剛志;

    申请日2006-04-11

  • 分类号H01L21/66;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 17:38:09

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