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机译:氮化硅层对c-Si晶片中少数载流子扩散长度的影响
机译:氮化硅阻挡层在III–V层的MBE模拟生长过程中减轻了硅晶片中少数载流子的寿命退化。
机译:使用新型多层多孔硅叠层的无外延薄硅箔无缝层转移,具有近100%的分离率和大的少数载流子扩散长度
机译:多晶硅晶片和太阳能电池中的少数载流子扩散长度。
机译:硅氮化物层对硅晶片中少数载流子扩散长度的影响
机译:晶体硅的铝吸杂剂可改善少数载流子扩散长度并用于基本扩散机理的研究。
机译:使用原子层沉积改善硅纳米线阵列中载流子扩散长度
机译:分子束外延生长的β-FeSi2层的少数载流子扩散长度,少数载流子寿命和光响应性