首页> 外国专利> METHOD OF MEASURING MINORITY CARRIER DIFFUSION LENGTH AND METHOD OF MANUFACTURING SILICON WAFER

METHOD OF MEASURING MINORITY CARRIER DIFFUSION LENGTH AND METHOD OF MANUFACTURING SILICON WAFER

机译:少数载流子扩散长度的测量方法和硅晶片的制造方法

摘要

A method of measuring a diffusion length of a minority carrier in a silicon wafer by a surface photovoltage method including irradiating the surface-treated silicon wafer with ultraviolet radiation in an oxygen-containing atmosphere, and measuring a diffusion length of a minority carrier in a silicon wafer by a surface photovoltage method.
机译:一种通过表面光电压法测量硅晶片中少数载流子的扩散长度的方法,该方法包括在含氧气氛中用紫外线照射经表面处理的硅晶片,并测量硅中少数载流子的扩散长度。晶片通过表面光电压法。

著录项

  • 公开/公告号US2007287205A1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-12-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TSUYOSHI KUBOTA;

    申请/专利号US20070697796

  • 发明设计人 TSUYOSHI KUBOTA;

    申请日2007-04-09

  • 分类号G01R31/26;H01L21/66;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 20:15:29

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号