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Sacrificial layers made from aerogel for microelectromechanical systems (MEMS) device fabrication processes

机译:由气凝胶制成的牺牲层,用于微机电系统(MEMS)器件制造工艺

摘要

Systems and methods for processing sacrificial layers in MEMS device fabrication are provided. In one embodiment, a method comprises: applying a patterned layer of Aerogel material onto a substrate to form an Aerogel sacrificial layer; applying at least one non-sacrificial silicon layer over the Aerogel sacrificial layer, wherein the non-sacrificial silicon layer is coupled to the substrate through one or more gaps provided in the patterned layer of Aerogel material; and removing the Aerogel sacrificial layer by exposing the Aerogel sacrificial layer to a removal liquid.
机译:提供了用于在MEMS器件制造中处理牺牲层的系统和方法。在一个实施例中,一种方法包括:在基板上施加气凝胶材料的图案化层以形成气凝胶牺牲层;在气凝胶牺牲层上施加至少一个非牺牲硅层,其中该非牺牲硅层通过设置在气凝胶材料的图案化层中的一个或多个间隙耦合到衬底;通过将气凝胶牺牲层暴露在去除液中来去除气凝胶牺牲层。

著录项

  • 公开/公告号US8293657B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-10-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JAMES F. DETRY;

    申请/专利号US20100940348

  • 发明设计人 JAMES F. DETRY;

    申请日2010-11-05

  • 分类号H01L21/302;H01L21/461;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:30:45

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