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Hollow structure forming substrate, method of producing hollow structure forming substrate, and method of producing hollow structure using hollow structure forming substrate

机译:中空结构形成基板,中空结构形成基板的制造方法以及使用中空结构形成基板的中空结构的制造方法

摘要

A hollow structure forming substrate includes: a surface on which a plastic-deformation film is formed by using a plastic-deformable material; a plurality of regularly-arranged gas-retaining spaces; a plurality of gas leading-out parts each having a first opening which faces corresponding one of the gas-retaining spaces and a second opening which faces the surface, the gas leading-out parts leads out gas retained in the gas-retaining spaces toward the surface under depressurized environmental condition; and a plurality of infiltration preventing spaces each provided in a space between corresponding one of the first openings and corresponding one of the second openings, in which the infiltration preventing spaces prevent infiltration of the plastic-deformable material from the surface into the gas-retaining spaces.
机译:一种中空结构形成基板,包括:表面,该表面通过使用可塑性变形的材料形成塑性变形膜;和多个规则排列的储气空间;多个气体引出部分别具有面对与气体保持空间中的一个相对应的第一开口和面对表面的第二开口,该气体引出部将滞留在气体保持空间中的气体引向气体吸收部。在减压环境下的表面;多个防渗透空间,每个防渗透空间设置在相应的第一开口和相应的第二开口之间的空间中,其中,防渗透空间防止可塑性变形材料从表面渗入气体保留空间。 。

著录项

  • 公开/公告号US8298651B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-10-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MASAHIRO MASUZAWA;MASARU OHGAKI;

    申请/专利号US20080518981

  • 发明设计人 MASARU OHGAKI;MASAHIRO MASUZAWA;

    申请日2008-01-10

  • 分类号B32B1/00;B32B3/12;B32B3/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:29:44

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