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NOVEL METAL COMPLEXES FREE FROM FLUORINE FOR GAS-PHASE DEPOSITION OF METALS

机译：不含氟的新型金属络合物，用于气相沉积金属

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摘要

the invention has the object of new copper (i) complexes of silver (i)and their use for the gas phase chemical deposition of copper orsilver metal substantially free of impurities.

机译：本发明的目的是新的铜（i）银（i）络合物及其用于气相化学沉积铜或银金属基本不含杂质。

著录项

公开/公告号CA2500386C

专利类型
公开/公告日2012-03-13

原文格式PDF
申请/专利权人 CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE;
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申请/专利号CA20032500386
发明设计人 DOPPELT PASCAL;
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申请日2003-09-25
分类号C07F1/00;C07F1/08;C07F1/10;C07F7/08;C23C16/06;C23C16/18;H01L21/205;
国家 CA
入库时间 2022-08-21 17:20:51

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