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FLUORINE-FREE METALLIC COMPLEXES FOR GAS-PHASE CHEMICAL METAL DEPOSITION

机译:用于气相化学金属沉积的无氟金属配合物

摘要

This invention new copper (i) or the silver (i) complex, and the impurity the metal copper or the vapor phase chemical evaporation of the silver which is not almost included (gas-phase chemical deposition) regards these uses of for the sake of.
机译:考虑到这些用途,本发明的新的铜(i)或银(i)络合物以及几乎没有包括的金属铜或银的气相化学蒸发(气相化学沉积)杂质被考虑到这些用途。 。

著录项

  • 公开/公告号EP1551851B1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-08-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE;

    申请/专利号EP20030798226

  • 发明设计人 DOPPELT PASCAL;

    申请日2003-09-25

  • 分类号C07F1/00;C07F1/08;C07F1/10;C23C16/18;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 21:29:47

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