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STABLE P-TYPE SEMICONDUCTING BEHAVIOR IN LI AND NI CODOPED ZNO

机译:Li和Ni掺杂ZNO中的稳定P型半导电行为

摘要

A method is provided for growing a stable p-type ZnO thin film with low resistivity and high mobility. The method includes providing an n-type Li—Ni co-doped ZnO target in a chamber, providing a substrate in the chamber, and ablating the target to form the thin film on the substrate.
机译:提供了一种用于生长具有低电阻率和高迁移率的稳定的p型ZnO薄膜的方法。该方法包括在腔室中提供n型Li&Ni共掺杂的ZnO靶,在腔室中提供衬底,以及烧蚀该靶以在衬底上形成薄膜。

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