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STABLE P-TYPE SEMICONDUCTING BEHAVIOR IN LI AND NI CODOPED ZNO

机译:Li和Ni掺杂ZNO中的稳定P型半导电行为

摘要

low resistivity (resistivity) and high mobility (mobility) having a stable p-type ZnO thin film growth of the method is provided for . The method includes a target flux to form a thin film on the steps , and the substrate in the step of providing a substrate , a chamber to provide a ZnO target doped with an n-type Li-Ni in the chamber . ;
机译:提供了具有稳定的p型ZnO薄膜生长的低电阻率(电阻率)和高迁移率(迁移率)的方法。该方法包括在步骤上形成靶薄膜的靶通量,以及在提供衬底的步骤中的衬底,在腔室中提供掺杂有n型Li-Ni的ZnO靶的腔室。 ;

著录项

  • 公开/公告号KR101288517B1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-07-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20127007722

  • 申请日2010-08-10

  • 分类号H01L33/26;H01L33/28;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 16:24:48

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