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Hierarchical Nanopatterns by Nanoimprint Lithography

机译:纳米压印光刻的分层纳米图案

摘要

A method for forming hierarchical patterns on an article by nanoimprinting is disclosed. The method includes using a first mold to form a primary pattern on the article at a first temperature and a first pressure, the first temperature and the first pressure being able to reduce the elastic modulus of the article; and using a second mold to form a second pattern on the primary pattern at a second temperature that is below the article's glass transition temperature, the forming of the second pattern being at a second pressure.
机译:公开了一种通过纳米压印在制品上形成分层图案的方法。该方法包括使用第一模具在第一温度和第一压力下在制品上形成主图案,该第一温度和第一压力能够减小制品的弹性模量。使用第二模具在低于制品的玻璃化转变温度的第二温度下在主图案上形成第二图案,第二图案的形成处于第二压力下。

著录项

  • 公开/公告号KR101169426B1

    专利类型

  • 公开/公告日2012-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20087011114

  • 发明设计人 장 펭시앙;로 홍이;

    申请日2005-10-20

  • 分类号H01L21/027;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:07:41

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