要解决的问题:提供一种高速,超低功耗的非易失性存储器,在零磁场中具有高温稳定性。
解决方案:在隧道磁阻效应膜1中,绝缘层304和非磁性导电层305层压到铁磁自由层303上,该隧道磁阻效应膜1包括具有通过自旋传递转矩进行写入的方法的非易失性磁性存储器。
版权:(C)2008,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP5143444B2
专利类型
公开/公告日2013-02-13
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社日立製作所;国立大学法人東北大学;
申请/专利号JP20070032420
申请日2007-02-13
分类号H01L43/08;H01L43/10;H01L21/8246;H01L27/105;H01L29/82;H01F10/32;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 16:55:48